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멜트블로운법을 이용한 실리콘카바이드 매트 제조장치 및그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015189357
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리콘카바이드 매트의 제조장치 및 이를 이용한 제조방법에 관한 것으로, (a) 멜트블로잉법을 이용하여 PCS를 방사 적층하여 제1 프리매트를 형성하는 단계; (b) 상기 제1 프리매트를 가온 및 가압을 통하여 섬유간 접촉을 유도시켜 제2 프리매트를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 제2 프리매트를 고온에서 열처리하는 단계를 포함한다. 이와 같은 본 발명을 제공하게 되면, 제조공정이 간단할 뿐만 아니라 매트의 두께와 섬유간 접촉도, 기공도 등의 제어가 용이하며, 고효율의 적외선을 발생시킬 수 있는 실리콘카바이드 매트를 제조할 수 있게 된다. 폴리카보실란(PCS), 부직포, 프리매트(premat), 멜트블론(Melt Blown), 웜-롤(worm-roll), 실리콘카바이드(SiC) 매트, 적외선 방사, 적외선 라디에이션
Int. CL D04H 1/558 (2006.01) D04H 1/4209 (2006.01) D04H 1/724 (2006.01)
CPC D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01) D04H 1/558(2013.01)
출원번호/일자 1020080008755 (2008.01.28)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1110353-0000 (2012.01.19)
공개번호/일자 10-2009-0082797 (2009.07.31) 문서열기
공고번호/일자 (20120405) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.28)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류도형 대한민국 서울특별시 금천구
2 신동근 대한민국 서울특별시 종로구
3 허승헌 대한민국 서울 동작구
4 조광연 대한민국 서울특별시 구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0071734-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.02.19 수리 (Accepted) 9-1-2009-0010783-77
5 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410356-13
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0487368-89
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0051905-16
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0124558-66
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.03.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0194813-89
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0194840-12
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2010.07.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0311783-11
12 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2010.09.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2010-0039777-71
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0497266-23
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0000681-34
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.02.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0084039-99
16 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2011-0149231-17
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0243236-17
18 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.04.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0243235-72
19 등록결정서
Decision to grant
2011.10.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0616396-09
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 멜트블로잉법을 이용하여 폴리카보실란(PCS)을 방사 적층하여 프리매트를 형성하는 단계; 및(b) 상기 폴리카보실란 프리매트를 1000~1500도 불활성 분위기에서 열처리하여 실리콘카바이드(SiC) 매트로 전환하는 단계를 포함하고,상기 (a) 단계는 폴리카보실란(PCS)을 방사 적층하여 제1 프리매트를 형성하는 단계; 및 상기 제1 프리매트를 웜-롤(worm roll) 장치를 통하여 150~250도에서 가온 및 가압함으로써 부분 안정화와 동시에 섬유의 접촉을 유도하여 제2 프리매트를 형성하는 단계를 포함하여, 상기 웜-롤 장치의 통과 속도에 따라 상기 실리콘카바이드 매트의 섬유간 접촉도가 제어되는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 폴리카보실란(PCS)을 메쉬 형태의 기판에 적층하되, 상기 기판 하부에서 석션하여 상기 프리매트를 압착시키는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 프리매트의 상기 각 단계로의 이동은 컨베이어 운송방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 폴리카보실란(PCS) 방사조건을 조절하여 섬유 직경을 조절하고 적어도 하나의 직경을 갖는 섬유들을 단계별로 적층하여 프리매트를 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 폴리카보실란(PCS) 방사 조건을 조절하여 섬유들 사이의 구멍 크기와 밀도를 제어하여 프리매트를 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
8 8
삭제
9 9
제 1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 열처리된 상기 프리매트에 천공장치를 이용하여 복수개의 천공을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 멜트블로잉법에 따른 멜트블론의 방사 노즐 양측으로 고온 및 고압의 공기를 주입하여 상기 제1 프리매트를 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드(SiC) 매트를 제조하는 방법
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
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17 17
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18 18
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.