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무소결 MIM 커패시터 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015189466
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 무소결 MIM 커패시터(Metal-Insulator-Metal Capacitor) 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 MIM 커패시터 제조 방법은 하부 금속-절연체-상부 금속을 제조하되, 상기 절연체(Insulator)는, 스몰 파우더(small powder)와 상기 스몰 파우더보다 더 큰 평균 입경을 갖는 라지 파우더(large powder)를 포함하는 고유전성 세라믹 파우더, 고분자 수지 및 용매를 포함하는 세라믹-고분자 조성물을 마련하는 단계; 상기 세라믹-고분자 조성물을 상기 하부 금속 위에 도포하여 세라믹-고분자 막을 형성하는 단계; 및 상기 형성된 세라믹-고분자 막 내의 고분자 수지를 경화시키는 단계를 포함하여, 무소결(non-sintering) 방식으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01G 4/12 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100031580 (2010.04.06)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1101347-0000 (2011.12.26)
공개번호/일자 10-2011-0112141 (2011.10.12) 문서열기
공고번호/일자 (20120102) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.04.06)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김지훈 대한민국 서울특별시 서초구
2 김종희 대한민국 서울특별시 송파구
3 윤영준 대한민국 경기도 성남시 분당구
4 김효태 대한민국 경기도 안양시 만안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0219791-93
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.03.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0035202-51
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0258132-65
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0538372-59
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0538369-11
7 등록결정서
Decision to grant
2011.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0672743-41
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하부 금속-절연체-상부 금속 구조를 포함하는 MIM 커패시터(Metal - Insulator - Metal Capacitor)의 제조 방법에 있어서,상기 절연체(Insulator)는,스몰 파우더(small powder)와 상기 스몰 파우더보다 더 큰 평균 입경을 갖는 라지 파우더(large powder)를 포함하는 고유전성 세라믹 파우더, 고분자 수지 및 용매를 포함하는 세라믹-고분자 조성물을 마련하는 단계;상기 세라믹-고분자 조성물을 상기 하부 금속 위에 도포하여 세라믹-고분자 막을 형성하는 단계; 및상기 형성된 세라믹-고분자 막 내의 고분자 수지를 경화시키는 단계를 포함하여, 무소결(non-sintering) 방식으로 형성되고,상기 고유전성 세라믹 파우더는 상기 스몰 파우더 20 ~ 30 vol
2 2
하부 금속-절연체-상부 금속 구조를 포함하는 MIM 커패시터의 제조 방법에 있어서,상기 절연체는,스몰 파우더와 상기 스몰 파우더보다 더 큰 평균 입경을 갖는 라지 파우더를 포함하는 고유전성 세라믹 파우더 및 용매를 포함하는 세라믹 조성물을 마련하는 단계;고분자 수지 및 용매를 포함하는 고분자 조성물을 마련하는 단계; 상기 세라믹 조성물을 하부 금속 위에 도포하여 세라믹 막을 형성하는 단계; 상기 형성된 세라믹 막 상에 상기 고분자 조성물을 도포하고, 상기 고분자 조성물을 상기 세라믹 내로 침투(penetrating)시켜 세라믹-고분자 막을 형성하는 단계; 및상기 세라믹-고분자 막 내의 고분자 수지를 경화시키는 단계를 포함하여, 무소결 방식으로 형성되고,상기 고유전성 세라믹 파우더는 상기 스몰 파우더 20 ~ 30 vol
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 세라믹-고분자 조성물은 잉크젯 인쇄법(ink jet printing)으로 도포되는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
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제2항에 있어서, 상기 세라믹 조성물 또는 상기 고분자 조성물은 잉크젯 인쇄법으로 도포되는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
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10 10
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 라지 파우더의 평균 입경은 490~510 nm이고, 상기 스몰 파우더의 평균 입경은 25 ~ 35 nm 인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
11 11
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고유전성 세라믹 파우더는 BaTiO3 인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
12 12
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고분자 수지의 함량은 상기 고유전성 세라믹 파우더 100 중량부에 대하여, 10 ~ 150 중량부인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
13 13
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 고분자 수지는 열경화형 수지 또는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 세라믹-고분자 조성물은 비이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 음이온 계면활성제, 옥틸알콜 및 아크릴계 고분자 중에서 하나 이상을 포함하는 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 분산제는 상기 세라믹-고분자 조성물 100 중량부에 대하여, 5중량부 이하의 함량비로 첨가되는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
16 16
제2항에 있어서, 상기 세라믹 조성물 또는 고분자 조성물은 비이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 음이온 계면활성제, 옥틸알콜 및 아크릴계 고분자 중에서 하나 이상을 포함하는 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터 제조 방법
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하부 금속-절연체-상부 금속 구조를 포함하는 MIM 커패시터로서, 상기 절연체는, 고분자 수지가 함침된 고유전성 세라믹 파우더로 형성되되, 상기 고유전성 세라믹 파우더는 스몰 파우더와 상기 스몰 파우더보다 더 큰 평균 입경을 갖는 라지 파우더를 포함하되, 상기 스몰 파우더 20 ~ 30 vol
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제17항에 있어서, 상기 고유전성 세라믹 파우더는 BaTiO3 인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터
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삭제
20 20
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21 21
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22 22
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23 23
제17항에 있어서,상기 라지 파우더의 평균 입경은 490~510 nm이고, 상기 스몰 파우더의 평균 입경은 25 ~ 35 nm 인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터
24 24
제17항에 있어서, 상기 고분자 수지는 상기 고유전성 세라믹 파우더 100 중량부에 대하여, 10 ~ 150 중량부의 함량비로 포함되는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터
25 25
제17항에 있어서, 상기 고분자 수지는 열경화형 수지 또는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터
26 26
제17항에 있어서, 상기 하부 금속 및 상부 금속은 은(Ag)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무소결 MIM 커패시터
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP05357827 JP 일본 FAMILY
2 JP23222923 JP 일본 FAMILY
3 US20110245064 US 미국 FAMILY
4 WO2011126169 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2011222923 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP5357827 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 US2011245064 US 미국 DOCDBFAMILY
4 WO2011126169 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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