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전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자

  • 기술번호 : KST2015189561
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자외선, 가시광, 적외선에 이르는 광대역 모두에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, p- 전도성 타입의 에피택시층 및 PN-접합층을 포함하는 다수의 마이크로 픽셀, 상기 마이크로 픽셀 주위에 배치되는 트렌치 전극, 및 상기 마이크로 픽셀 및 상기 트렌치 전극이 안착되는 동시에 외부로 연결되도록 부분적으로 개방된 상태의 기판을 포함하되, 상기 마이크로 픽셀을 구성하는 PN-접합층은, 상기 에피택시층의 내부에 수직으로 형성되고 p 전도성 타입 층 및 상기 p 전도성 타입 층의 외부에 형성되는 n+ 전도성 타입 층을 포함하며, 상기 마이크로 픽셀 내의 적어도 절반 이상의 영역에 공핍영역이 형성된 것을 그 구성상의 특징으로 한다. 본 발명에서 제안하고 있는 자외선, 가시광, 적외선에 이르는 광대역 모두에서 양자효율이 향상된 수직구조의 실리콘 광증배 소자에 따르면, 마이크로 픽셀을 구성하는 PN-접합층을 에피택시층 내에 수직으로 형성하고 그 주위에 형성되는 트렌치 전극을 구비한 다음, 그 사이에 역 바이어스를 가하여 전기장이 수평으로 형성되도록 함으로써, 전 파장 대에서 양자효율이 향상될 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, PN-접합층 형성 시 p 전도성 타입 층 및 n+ 전도성 타입 층의 도핑 농도, 넓이 및 침투 깊이 등을 조절하여, 마이크로 픽셀 내의 넓은 영역에 공핍영역이 형성될 수 있도록 함으로써, 빛이 들어왔을 때 이온화 확률을 높이고, 이에 따른 전자사태 방전 확률도 증가시켜 센서의 양자효율을 높일 수 있다.
Int. CL H01L 27/14 (2006.01)
CPC G01T 1/248(2013.01) G01T 1/248(2013.01) G01T 1/248(2013.01) G01T 1/248(2013.01) G01T 1/248(2013.01)
출원번호/일자 1020100028869 (2010.03.30)
출원인 이화여자대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1108716-0000 (2012.01.16)
공개번호/일자 10-2011-0109231 (2011.10.06) 문서열기
공고번호/일자 (20120130) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.30)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 이화여자대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박일흥 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 이직 대한민국 서울특별시 강동구
3 남지우 대한민국 서울특별시 종로구
4 이혜영 대한민국 충청북도 청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김건우 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, 에이동 ***호 특허그룹덕원 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 이화여자대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.03.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0203812-45
2 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2010.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0222943-18
3 보정요구서
Request for Amendment
2010.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0031215-56
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0707653-69
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0042605-12
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0276184-40
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0575074-60
9 등록결정서
Decision to grant
2012.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0027527-79
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번호 청구항
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전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자로서,p- 전도성 타입의 에피택시층 및 PN-접합층을 포함하는 다수의 마이크로 픽셀;상기 마이크로 픽셀 주위에 배치되는 트렌치 전극; 및 상기 마이크로 픽셀 및 상기 트렌치 전극이 안착되는 동시에 외부로 연결되도록 부분적으로 개방된 상태의 기판을 포함하되,상기 마이크로 픽셀을 구성하는 PN-접합층은, 상기 에피택시층의 내부에 수직으로 형성되고 p 전도성 타입 층 및 상기 p 전도성 타입 층의 외부에 형성되는 n+ 전도성 타입 층을 포함하며, 상기 마이크로 픽셀 내의 적어도 절반 이상의 영역에 공핍영역이 형성된 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
2 2
제1항에 있어서, 상기 PN-접합층의 p 전도성 타입 층은, 도핑농도가 1012~1013㎝-3인 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
3 3
제1항에 있어서, 상기 PN-접합층의 p 전도성 타입 층은,상기 기판으로부터의 침투깊이가 1~1
4 4
제1항에 있어서,상기 p 전도성 타입 층의 도핑에 사용되는 이온은 붕소(Boron)인 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
5 5
제1항에 있어서, 상기 PN-접합층의 n+ 전도성 타입 층은,상기 p 전도성 타입 층보다 넓은 영역을 갖게 한 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
6 6
제1항에 있어서, 상기 PN-접합층의 n+ 전도성 타입 층은,도핑농도가 1015~1017㎝-3인 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
7 7
제1항에 있어서, 상기 PN-접합층의 n+ 전도성 타입 층은,상기 기판으로부터의 침투깊이가 1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
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제1항에 있어서, 상기 n+ 전도성 타입 층의 도핑에 사용되는 이온은 인(Phosphorus)인 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
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제1항에 있어서, 상기 PN-접합층은,일자 구조, U자 구조, V자 구조 중 어느 하나의 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 전 파장 대에서 양자효율이 향상된 수직구조 실리콘 광증배 소자
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