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염료 승화형 열전사 기록용 수용지 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015189612
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 염료 승화형 열전사 기록용 수용지 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기재층, 상기 기재층 일면에 위치하는 백코팅층 및 상기 백코팅층이 형성된 기재층 반대면에 위치하고, 다공성 금속산화물 나노입자를 함유하는 잉크 수용층을 포함하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 염료 승화형 열전사 기록용 수용지는 다공성 금속산화물 나노입자를 함유하는 잉크 수용층을 도입함으로써, 수용지의 화상의 선명성을 유지하면서, 열적 변형과 내구성을 크게 향상시킬 수 있어 화상 인화 품질면에서나 원가적인 측면에서 많은 이점을 얻을 수 있다.
Int. CL B41M 5/50 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01) B41M 5/40 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020100038078 (2010.04.23)
출원인 주식회사 코림, 이화여자대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0117537 (2010.11.03) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090036149   |   2009.04.24
법적상태 포기
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.04.23)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 코림 대한민국 충청북도 충주시
2 이화여자대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최진호 대한민국 서울특별시 강남구
2 박대환 대한민국 대전광역시 대덕구
3 박원우 대한민국 서울특별시 노원구
4 유재상 대한민국 전라북도 전주시 완산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0264278-26
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.12.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.12.24 수리 (Accepted) 9-1-2010-0079140-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0278792-36
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.07.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0559003-64
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.07.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0559002-18
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0741300-36
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.02.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0103433-01
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.02.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0103432-55
10 등록결정서
Decision to grant		 2012.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0422589-09
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번호 청구항
1 1
다음을 포함하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지:기재층;상기 기재층 일면에 위치하는 백코팅층; 및상기 백코팅층이 형성된 기재층 반대면에 위치하고, 다공성 금속산화물 나노입자를 함유하는 잉크 수용층
2 2
제1항에 있어서, 상기 잉크 수용층은 바인더 100 중량부에 대하여, 다공성 금속산화물 나노입자 10 ~ 30 중량부, 윤활제 3 ~ 10 중량부 및 증백제 3 ~ 10 중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 나노입자는 산화알루미늄, 이산화규소, 산화티탄, 산화아연, 및 이들의 합금으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 나노입자는 평균 입도크기가 20nm ~ 500nm인 것을 특징으로 하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지
5 5
제1항에 있어서, 상기 잉크 수용층은 두께가 0
6 6
제1항에 있어서, 상기 백코팅층은 두께가 0
7 7
제1항에 있어서, 잉크 수용층과 기재층과의 사이에 중간 코팅층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지
8 8
제7항에 있어서, 상기 중간 코팅층은 자외선 차단제, 산화방지제 및 증백제로 구성된 군에서 선택되는 것을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지
9 9
다음 단계를 포함하는 염료 승화형 열전사 기록용 수용지의 제조방법:(a) 기재층의 한쪽면에 다공성 금속산화물 나노입자를 함유하는 잉크 수용층을 도포하는 단계; 및(b) 상기 잉크 수용층이 도포된 기재층의 반대면에 백코팅층을 도포하는 단계
10 10
제9항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 나노입자는 산화알루미늄, 이산화규소, 산화티탄, 산화아연, 및 이들의 합금으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
11 11
제9항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 나노입자는 금속 알콕사이드의 가수분해 반응을 통하여 제조되는 것을 특징으로 하는 방법
12 12
제9항에 있어서, 상기 다공성 금속산화물 나노입자는 소수성 유기치환제를 이용하여 개질되는 것임을 특징으로 하는 방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 소수성 유기치환체는 4차 암모늄, 4차 포스포늄 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102089155 CN 중국 FAMILY
2 US20110052842 US 미국 FAMILY
3 WO2010123321 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
4 WO2010123321 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102089155 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 US2011052842 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2010123321 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
4 WO2010123321 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.