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표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자를 함유하는 코어 상에 형성된 제 1 실리카 쉘; 상기 제 1 실리카 쉘의 표면에 형성된 양자점;상기 양자점이 형성된 제 1 실리카 쉘 상에 형성된 제 2 실리카 쉘; 및상기 제 2 실리카 쉘의 표면에 흡착된 염료를 포함하며,상기 제 1 실리카 쉘의 두께는 50 nm 이하이고,상기 양자점은 Cd, Se, S, Te, Zn, Hg 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 나노결정을 포함하는 것이며,상기 제 2 실리카 쉘의 두께는 50 nm 이하인 것인, 코어-쉘 나노구조체
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제 1 항에 있어서, 상기 표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자는 귀금속 나노입자 및/또는 도핑된 반도체 나노입자를 포함하는 것인, 코어-쉘 나노구조체
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제 1 항에 있어서, 상기 표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자의 직경은 100 nm 이하인 것인, 코어-쉘 나노구조체
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제 1 항에 있어서, 상기 양자점은 시트레이트 또는 카르복시산기를 포함하는 리간드로 캡핑된 것인, 코어-쉘 나노구조체
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제 1 항에 있어서,상기 표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자로부터 상기 양자점으로의 표면 플라즈몬 에너지 전이의 상승적인 효과에 의해 상기 양자점의 발광 강도가 향상되는 것인, 코어-쉘 나노구조체
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제 8 항에 있어서,상기 양자점의 발광 강도가 향상되는 것에 의하여 상기 염료의 발광 강도가 향상되는 것인, 코어-쉘 나노구조체
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표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자를 함유하는 코어 상에 제 1 실리카 쉘을 형성하는 단계; 상기 제 1 실리카 쉘의 표면에 양자점을 형성하는 단계;상기 양자점이 형성된 제 1 실리카 쉘 상에 제 2 실리카 쉘을 형성하는 단계; 및상기 제 2 실리카 쉘의 표면에 염료를 흡착하는 단계를 포함하는, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 1 실리카 쉘 및/또는 제 2 실리카 쉘의 형성은 졸-겔 공정, 수정된 스퇴버 기법 (modified Stoeber method), 화학적 증착, 또는 물리적 증착에 의하여 수행되는 것인, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 표면 플라즈몬 공명 현상을 나타내는 나노입자는 귀금속 나노입자 및/또는 도핑된 반도체 나노입자를 포함하는 것인, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 2 실리카 쉘의 형성 전에, 상기 제 1 실리카 쉘을 실란 화합물을 이용하여 개질시키는 것을 추가 포함 하는, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 양자점은 Cd, Se, S, Te, Zn, Hg 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 나노결정을 포함하는 것인, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 1 실리카 쉘의 두께는 50 nm 이하인 것인, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 2 실리카 쉘의 두께는 50 nm 이하인 것인, 코어-쉘 나노구조체의 제조 방법
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