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하기 단계 (a) 내지 (d)를 순차적으로 포함하는 태양전지용 광흡수층의 제조방법으로서, (a) 기판 상에 금속 확산 방지 기능을 갖는 보호층을 형성하는 단계;(b) 상기 보호층 상에 VIA족 물질을 포함하는 중간층을 형성하는 단계;(c) 상기 중간층 상에 IB족, IIB족, IIIA족 및 IVA족 전구체 중 하나 이상을 포함하는 전구체층을 형성하는 단계; 및(d) 열처리하여 I-III-VI계 또는 I-II-IV-VI계 광흡수층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 보호층이 무기물 전도성 금속을 포함하며, 상기 무기물 전도성 금속이 TiN, TaN, Ti(Al)N, WxN, RuO2, TaSiN, TiSiN, WBN 및 이들의 조합으로부터 선택되는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 VIA족 물질이 셀레늄(Se), 황(S) 또는 이들 모두를 포함하는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 진공 또는 용액 공정을 이용하여 상기 중간층을 형성하는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, IB족 전구체가 구리(Cu) 또는 구리 화합물이며, IIB족 전구체가 아연(Zn) 또는 아연 화합물이며, IIIA족 전구체가 인듐(In) 또는 인듐 화합물이거나 갈륨(Ga) 또는 갈륨 화합물이며, IVA족 전구체가 주석(Sn) 또는 주석 화합물인 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전구체층이 IB족, IIB족, IIIA족 및 IVA족 금속 중 하나 내지 셋을 포함하는 단일 또는 복수 층인 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 진공 또는 용액 공정을 이용하여 상기 전구체층을 형성하는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리가 300℃ 내지 600℃에서 이루어지는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리가 일정한 온도에서 이루어지거나 낮은 온도에서 시작되어 높은 온도에서 종료되도록 온도 편차를 갖는 조건 하에서 이루어지는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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10
제1항에 있어서, 상기 열처리가 비활성기체 분위기이거나 셀레늄(Se) 또는 황 중 1종 이상의 분위기에서 이루어지는 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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11
제1항에 있어서, 상기 기판이 유리기판 또는 몰리브데늄이 코팅된 유리기판인 태양전지용 광흡수층의 제조방법
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12
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조되며 CuaInbGacSedSe (0003c#(a,b,c)≤1, 0≤(d,e)≤2
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