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전기화학적 에칭 방법에 의한 실리콘 와이어 어레이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015190656
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기판 표면에 에칭 마스크를 패터닝하는 단계; 및 상기 에칭 마스크가 패터닝된 상기 실리콘 기판 표면에 대해 전기화학적 에칭을 수행하는 단계를 포함하되, 상기 전기화학적 에칭은 제1 전류밀도를 갖는 전기장을 인가하여 상기 에칭 마스크가 도포되지 않은 노출 영역에 미세 공극을 구비하는 식각 영역을 형성하는 단계; 및 상기 제1 전류밀도보다 더 높은 제2 전류밀도를 갖는 전기장을 인가하여 상기 식각 영역을 더 에칭하는 단계를 포함하는 실리콘 와이어 어레이의 제조방법이 제공된다.
Int. CL H01L 21/306 (2006.01)
CPC H01L 21/30604(2013.01)
출원번호/일자 1020110029674 (2011.03.31)
출원인 재단법인대구경북과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0111274 (2012.10.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.31)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인대구경북과학기술원 대한민국 대구 달성군 현

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장환수 대한민국 대구광역시 달서구
2 최호진 대한민국 대구광역시 달서구
3 백성호 대한민국 대구광역시 동구
4 김재현 대한민국 대구광역시 달서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남정길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 인화빌딩 *층 (삼성동)(특허법인(유한)아이시스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0236437-23
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0242288-13
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.02.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0121655-98
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0334668-74
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.04.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0334667-28
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5164108-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5164104-34
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0581561-61
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2013-5149764-85
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5260250-39
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.18 수리 (Accepted) 4-1-2020-5134633-04
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 기판 표면에 에칭 마스크를 패터닝하는 단계; 및상기 에칭 마스크가 패터닝된 상기 실리콘 기판 표면에 대해 전기화학적 에칭을 수행하는 단계를 포함하되,상기 전기화학적 에칭은 제1 전류밀도를 갖는 전기장을 인가하여 상기 에칭 마스크가 도포되지 않은 노출 영역에 미세 공극들을 구비하는 식각 영역을 형성하는 단계; 및상기 제1 전류밀도보다 더 높은 제2 전류밀도를 갖는 전기장을 인가하여 상기 식각 영역을 더 에칭하는 단계를 포함하는 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 저항이 1~20 ohm cm인 p-type (100) 실리콘 웨이퍼인 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
3 3
제1 항에 있어서,상기 에칭 마스크가 포토레지스트인 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
4 4
제1 항에 있어서,상기 제2 전류밀도를 갖는 전기장이 상기 제1 전류밀도를 갖는 전기장보다 장시간 인가되는 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
5 5
제1 항에 있어서,상기 제1 전류밀도를 갖는 전기장의 인가시간은 1 내지 5 분이고, 상기 제2 전류 밀도를 갖는 전기장의 인가 시간은 15 내지 30 분인 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
6 6
제1 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 전류 밀도는 임계 전류 밀도 값의 10 내지 20%의 크기인 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
7 7
제1 항 또는 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2 전류 밀도는 임계 전류 밀도 값의 30 내지 40%의 크기인 실리콘 와이어 어레이의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 대구경북과학기술원 미래유망 융합기술 피이오니어 사업 초고효율 태영전지 제작을 위한 와이어 어레이 제작 및 이송