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기판, 투명전극 및 염료 활성층이 순차적으로 적층된 양극부; 역오팔(Inverse opal) 구조인 3차원 광결정 구조층, 기판, 투명전극 및 상대전극 층이 순차적으로 적층된 음극부; 및상기 양극부와 음극부 사이의 공간에 구비되는 전해질;을 포함하되,상기 3차원 광결정 구조층은 공동 크기가 375 nm 및 411 nm 인 복층구조이며, 상기 3차원 광결정 구조층은 ZnO 유전물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 기판은 PET(Poly Ethylene Terephalate), PEN(Poly Ethylene Naphthelate), PC(Poly Carbonate), PP(Poly Propylene), PI(Poly Imide) 및 TAC(Tri Acetyl Cellulose)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자 기판 또는 유리 기판인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 투명전극은 플루오린 틴 옥사이드(FTO), 인듐 틴 옥사이드(ITO), 알루미늄 아연 옥사이드(AZO) 및 안티몬 틴 옥사이드(ATO)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 염료 활성층은 티타늄(Ti), 아연(Zn), 실리콘(Si), 주석(Sn), 텅스텐(W) 및 지르코늄(Zr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 상대전극 층은 금(Au), 백금(Pt), 몰리브덴(Mo), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 아연(Zn), 실리콘(Si), 주석(Sn), 텅스텐(W) 및 지르코늄(Zr)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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기판, 투명전극 및 염료 활성층을 순차적으로 적층시켜 양극부를 제조하는 단계(단계 1);기판상에 콜로이드 입자를 포함하는 오팔 주형을 형성하는 단계(단계 2);상기 단계 2에서 형성된 오팔 주형의 간극으로 유전물질인 ZnO를 충진하는 단계(단계 3); 상기 단계 2에서 형성된 오팔 주형을 제거하여 역오팔 구조인 3차원 광결정 구조를 형성시키는 단계(단계 4);단계 2의 기판에 있어 상기 광결정 구조가 형성되지 않은 표면상에 투명전극 및 상대전극층을 순차적으로 형성시켜 음극부를 제조하는 단계(단계 5); 및상기 단계 1 및 5에서 제조된 양극부와 음극부를 결합한 후, 양극부 및 음극부 사이의 공간으로 전해질을 충진시키는 단계(단계 6);를 포함하는 제1항에 따른 염료감응 태양전지의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 단계 2의 콜로이드 입자는 폴리스타이렌, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 및 실리카를 포함하는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 단계 4의 오팔 주형 제거는 오팔 주형을 가열 또는 용매에 용해시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 제조방법
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