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탄소 원자, 질소 원자 및 금속 원자를 포함하는 금속 킬레이트 화합물을 포함하는 전구체염을 가열하여 금속 또는 금속산화물 및 탄소를 포함하는 금속-탄소 구조체를 제조하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 제조된 금속-탄소 구조체의 금속 또는 금속산화물을 제거하는 단계(단계 2);를 포함하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 금속-탄소 구조체는 탄소 원자, 질소 원자 및 극소량의 금속 원자 또는 금속산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 전구체염의 가열은 스텐레스 단위 셀(Swagelok parts, a1/2 union part)를 사용하여 RAPET(Reaction under autogenic pressure at elevated temperature)의 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 전구체염은 철(Ⅲ)-디에틸렌트리아민펜타아세틱산(Fe(Ⅲ)-diethylenetriaminepentaacetic acid)인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 제조된 금속-탄소 구조체는 정공 구형(Hollow sphere)인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 전구체염은 에틸렌디아민테트라아세틱산 디소듐염 코발트(Ethylenediaminetetraacetic acid disodium cobalt salt) 또는 그 수화물인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 제조된 금속-탄소 구조체는 튜브형(tube)인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 전구체염은 에틸렌디아민테트라아세틱산 디소듐염 니켈(Ethylenediaminetetraacetic acid disodium nickel salt) 또는 그 수화물인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 제조된 금속-탄소 구조체는 나노 파티클(Nano particle)인 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 전구체염의 가열은 600 내지 1,000 ℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 전구체염의 가열은 1 내지 3 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 산 처리는,산 수용액에 금속-탄소 구조체를 혼합하는 단계(단계 a); 및상기 단계 a에서 혼합된 용액에 과량의 에탄올 또는 물을 첨가하여 중화시키는 단계(단계 b);를 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 질소가 도핑된 탄소 나노구조체의 제조방법
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제1항의 제조방법으로 제조된 질소가 도핑된 탄소 나노구조체
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제14항의 질소가 도핑된 탄소 나노구조체를 포함하는 전극
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