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금속 전구체를 증착하여 광흡수층을 형성하는 단계; 및GeS 및 GeSe 중에서 선택되는 적어도 하나의 도펀트 물질로 상기 광흡수층을 도핑하는 황화 열처리 단계를 포함하는 박막 태양전지 제조방법으로서, 상기 열처리 단계는 2 구역 퍼니스(2-zone furnace) 내에서 이루어지고, 퍼니스의 제 1 구역에는 황 소스가 위치하고, 제 1 구역 보다 높은 온도를 가지는 퍼니스의 제 2 구역에는 도펀트 물질과 상기 광흡수층이 위치하는 것을 특징으로 하는 박막 태양전지 제조방법
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금속 전구체를 증착하여 광흡수층을 형성하는 단계; 및GeS 및 GeSe 중에서 선택되는 적어도 하나의 도펀트 물질로 상기 광흡수층을 도핑하는 셀렌화 열처리 단계를 포함하는 박막 태양전지 제조방법으로서, 상기 열처리 단계는 밀폐된 퍼니스 내에서 이루어지고, 상기 퍼니스에는 상기 광흡수층, 셀레늄 소스 및 도펀트 물질이 위치하고, 퍼니스 내에 광흡수층이 위치하는 높이가 셀레늄 소스 및 도펀트 물질의 위치보다 높은 것을 특징으로 하는 박막 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 퍼니스의 제 1 구역의 온도가 200℃ 내지 350℃인 박막 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 퍼니스의 제 2 구역의 온도가 450℃ 내지 800℃인 박막 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 황 소스가 S 또는 H2S 가스인 박막 태양전지 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 셀레늄 소스가 Se 또는 SeS2인 박막 태양전지 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 밀폐된 퍼니스의 온도가 450℃ 내지 800℃인 박막 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 증착이 물리적 기상 증착법(PVD) 중의 직류 스퍼터(DC Sputter), 직류 마그네트론 스퍼터(DC Magnetron Sputter), 직류 불균형 마그네트론 스퍼터(DC Unbalanced Magnetron Sputter), 펄스 직류 불균형 마그네트론 스퍼터(Pulse DC Unbalanced Magnetron Sputter), 무선 주파수 스퍼터(RF Sputter), 아크 이온 플래팅(Arc Ion Plating), 전자 빔 증발 증착(Electron-Beam Evaporation), 이온 빔 증착(Ion-Beam Deposition), 이온 빔 보조 증착(Ion-Beam Assisted Deposition) 로 이루어진 군으로부터 선택되는 증착법으로 수행되는 박막 태양전지 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 증착이 DC 스퍼터(DC Sputter)의 증착법으로 수행되는 박막 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 광흡수층이 CZTS 또는 CZTSe 계열의 광흡수층인 박막 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 열처리 단계가 5분 내지 60분 동안 수행되는 박막 태양전지 제조방법
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제 1항, 제 2항 및 제 4항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 박막 태양전지
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