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박막 특성이 향상된 지르코니아 박막의 증착방법

  • 기술번호 : KST2015191504
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 산소가스의 부피에 대한 질소가스의 부피비를 조절하여 박막 특성을 개선함으로써 반도체의 유전체층, 디스플레이어의 활성층 등에 유용하게 이용될 수 있는 지르코니아 박막의 증착방법에 관한 것이다. 본 발명은 a)지르코니아 박막을 증착하고자 하는 기판의 표면에 존재하는 유기 및 무기물질을 제거하기 위하여 에탄올을 사용하여 초음파 세척기에 15분 동안 세척한 다음 탈이온수로 세척한 후 질소 가스로 세정하는 단계와, b)지르코늄 타켓으로부터 하방으로 70mm 떨어진 기판홀더에 상기 기판을 장착하는 단계와, c)지르코늄 타켓과 상기 기판홀더가 설치된 챔버의 내부 압력을 2×10-6torr까지 낮추는 단계와, d)챔버와 가스공급관으로 연결된 가스저장 붐베에 저장된 산소 및 질소가스를 상기 챔버로 주입하되 상기 산소가스의 부피에 대한 질소가스의 부피비를 유량조절기를 통해 조절하면서 주입하여 상기 챔버의 내부 압력을 400mtorr로 유지시키는 단계와, e)챔버 내에 플라즈마를 형성한 후 상기 지르코늄 타켓 표면의 불순물을 제거하기 위해 상기 기판홀더에 설치된 셔터를 닫은 채 20분 동안 프리 서퍼터링하는 단계와, f)셔터 제거 후 기판을 300℃로 유지한 상태에서 300W파워로 180분 동안 서퍼터링하여 기판에 지르코니아 박막을 증착하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/203 (2006.01) H01L 21/31 (2006.01) H01L 21/302 (2006.01)
CPC H01L 21/02266(2013.01) H01L 21/02266(2013.01) H01L 21/02266(2013.01)
출원번호/일자 1020100037593 (2010.04.22)
출원인 조선대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0116564 (2010.11.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090035205   |   2009.04.22
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.04.22)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 조선대학교산학협력단 대한민국 광주광역시 동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이봉주 대한민국 광주광역시 북구
2 백경철 대한민국 전라남도 순천시 지봉로 ***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재량 대한민국 광주광역시 광산구 하남산단*번로 ***, *층(도천동, 광주경제고용진흥원)(가온특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0260302-42
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149329-23
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.01.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.02.21 수리 (Accepted) 9-1-2011-0016661-04
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0298807-02
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0578208-17
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0578196-46
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.19 수리 (Accepted) 4-1-2011-5189513-90
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0033667-48
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004365-05
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.21 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049090-32
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.08.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-5106192-07
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.12.06 수리 (Accepted) 4-1-2017-5199091-10
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2020-5071333-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2020-5088703-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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a)지르코니아 박막을 증착하고자 하는 기판의 표면에 존재하는 유기 및 무기물질을 제거하기 위하여 에탄올을 사용하여 초음파 세척기에 15분 동안 세척한 다음 탈이온수로 세척한 후 질소 가스로 세정하는 단계와; b)지르코늄 타켓으로부터 하방으로 70mm 떨어진 기판홀더에 상기 기판을 장착하는 단계와;c)상기 지르코늄 타켓과 상기 기판홀더가 설치된 챔버의 내부 압력을 2×10-6torr까지 낮추는 단계와;d)상기 챔버와 가스공급관으로 연결된 가스저장 붐베에 저장된 산소 및 질소가스를 상기 챔버로 주입하되 상기 산소가스의 부피에 대한 질소가스의 부피비를 9로 조절하면서 주입하여 상기 챔버의 내부 압력을 400mtorr로 유지시키는 단계와;e)상기 지르코늄 타켓 표면의 불순물을 제거하기 위해 상기 기판홀더에 설치된 셔터를 닫은 채 상기 챔버 내에 플라즈마를 형성하여 20분 동안 프리 서퍼터링하는 단계와;f)상기 셔터 제거 후 상기 기판을 300℃로 유지한 상태에서 300W파워로 180분 동안 서퍼터링하여 상기 기판에 지르코니아 박막을 증착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 지르코니아 박막의 증착방법
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제 1항에 있어서, 상기 타켓은 순도 99
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.