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a) 주형 주위에 전기장을 형성하고, 몰드 제작용 열경화성 재료를 주형 위에 일차 임프린팅한 후 열을 가하여 몰드를 제조하는 단계;b) 상기 제조된 몰드에 용융된 생체적합성 재료를 가하고 전기장 하에서 이차 임프린팅하여 필름을 형성하는 단계; 및c) 상기 필름을 냉각하는 단계;를 포함하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1에 있어서,상기 a) 단계 및 b) 단계에서 전기장은 0
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청구항 1에 있어서,상기 a) 단계 및 b) 단계에서 전기장은 교차 전극에 교류 전기를 제공하여 형성되는 교류전기장임을 특징으로 하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1에 있어서,상기 a) 단계의 몰드 제작용 열경화성 재료는 PDMS (Polydimethylsiloxane)임을 특징으로 하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1에 있어서,상기 b) 단계의 생체적합성 재료는 푸코이단, 콜라겐, 알지네이트, 키토산, 히알루론산, 실크, 폴리이미드(polyimides), 폴리아믹스 산(polyamix acid), 폴리카프로락톤(polycarprolactone), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 나일론(nylon), 폴리아라미드(polyaramid), 폴리비닐알콜(polyvinyl alcohol), 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone), 폴리벤질글루타메이트(poly-benzyl-glutamate), 폴리페닐렌테레프탈아마이드(polyphenyleneterephthalamide), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리아크릴로나이트릴(polyacrylonitrile), 폴리에틸렌옥사이드(polyethylene oxide), 폴리스티렌(polystyrene), 셀룰로오스(cellulose), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate), 폴리락산(polylactic acid; PLA), 폴리글리콜산(polyglycolic acid; PGA), 폴리락산과 폴리글리콜산의 공중합체(PLGA), 폴리{폴리(에틸렌옥사이드)테레프탈레이트-co-부틸렌테레프탈레이트}(PEOT/PBT), 폴리포스포에스터(polyphosphoester; PPE), 폴리포스파젠(PPA), 폴리안하이드라이드(Polyanhydride; PA), 폴리오르쏘에스터{poly(ortho ester; POE}, 폴리(프로필렌푸마레이트)-디아크릴레이트{poly(propylene fumarate)-diacrylate; PPF-DA} 및 폴리에틸렌글라이콜디아크릴레이트{poly(ethylene glycol) diacrylate; PEG-DA}로 이루어진 그룹 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1에 있어서, a) 단계에서 주형으로 연꽃잎을 사용함을 특징으로 하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1에 있어서,c) 단계 이후 필름에 친수성 물질을 코팅하는 단계;를 추가적으로 포함하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 7에 있어서,상기 친수성 물질은 플로로탄닌임을 특징으로 하는 전기장을 이용한 마이크로구조 및 나노구조 임프린팅 모사방법
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청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항의 방법으로 제조되며, 마이크로 구조 구역의 거칠기가 2~4 ㎛, 나노 구조 구역의 거칠기가 0
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청구항 9에 있어서,상기 세포 담체는 조직 재생용임을 특징으로 하는 3차원 세포담체
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청구항 10에 있어서,상기 조직은 골조직임을 특징으로 하는 3차원 세포담체
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청구항 9의 세포 담체를 인공 세포지지체의 표면에 부착하여 사용함을 특징으로 하는 조직 재생방법
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