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여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치

  • 기술번호 : KST2015192765
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라스마 표면처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 가스공급장치 및 플라스마 발생장치를 이용하여 플라스마를 생성한 후, 이를 이용하여 미세입자의 표면을 처리하는 플라스마 표면처리장치에 있어서, 표면처리 대상물인 미세 입자가 투입되는 입구와 배출되는 출구를 구비하는 실린더 형태의 몸체부와 상기 미세입자를 분산시키기 위해 상기 몸체부의 내부에 배치되어 상기 몸체부의 중심축을 회전축으로 하여 회전하는 회전부를 구비한 반응 챔버; 상기 회전부를 지지하고, 회전시키도록 상기 회전부와 연결된 구동장치; 및 상기 반응 챔버의 내부에 투입된 상기 미세입자를 가열하도록, 상기 반응 챔버의 외부에 배치되는 제1여기장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치가 제공된다. 본 발명에 따른 플라스마 표면처리장치는 플라스마 인가 중에 구동장치에 의해 섬유/분말/캡슐 상 등의 미세 입자 기재가 고르게 분산된다. 따라서 보다 균일하고 효율적으로 미세 입자의 플라스마 표면처리가 가능하다. 또한, 열처리를 동시에 진행하는 것이 가능하다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) C23C 16/00 (2006.01) B22F 1/00 (2006.01)
CPC B22F 1/0081(2013.01) B22F 1/0081(2013.01)
출원번호/일자 1020100013887 (2010.02.16)
출원인 인제대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0094488 (2011.08.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.12)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인제대학교 산학협력단 대한민국 경남 김해시 인제로 *

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이제원 대한민국 경상남도 김해시 경원로 **,
2 신주용 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다인 대한민국 경기도 화성시 동탄기흥로*** 더퍼스트타워쓰리제**층 제****호, 제****-*호

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0100689-87
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0983699-99
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2012-5124408-82
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.07.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.09.03 수리 (Accepted) 9-1-2012-0068512-07
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.18 수리 (Accepted) 4-1-2012-5216806-20
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0473820-71
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0732516-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0732510-39
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0798592-33
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2013-5175090-75
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.02.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0100318-59
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.06.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5100061-64
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2017-5214791-60
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5082225-25
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149036-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
가스공급장치 및 플라스마 발생장치를 이용하여 플라스마를 생성한 후, 이를 이용하여 미세입자의 표면을 처리하는 플라스마 표면처리장치에 있어서,표면처리 대상물인 미세 입자가 투입되는 입구와 배출되는 출구를 구비하는 실린더 형태의 몸체부와 상기 미세입자를 분산시키기 위해 상기 몸체부의 내부에 배치되어 상기 몸체부의 중심축을 회전축으로 하여 회전하는 회전부를 구비한 반응 챔버; 상기 회전부를 지지하고, 회전시키도록 상기 회전부와 연결된 구동장치; 및상기 반응 챔버의 내부에 투입된 상기 미세입자를 여기하도록, 상기 반응 챔버의 외부에 배치되는 여기장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
2 2
제1항에 있어서,상기 회전부는,상기 미세입자를 분산하도록, 상기 회전부의 회전축에서 상기 몸체부를 향해서 연장된 분산수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
3 3
제2항에 있어서,상기 분산수단은,적어도 하나 이상의 회전날개인 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
4 4
제3항에 있어서,상기 분산수단은,상기 반응 챔버의 내부에 와류를 발생시키기 위해, 상기 회전부의 회전축과 일정한 각도로 경사진 상태로 결합하는 와류발생돌기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
5 5
제1항에 있어서,상기 구동장치는, 모터, 상기 몸체부를 관통하는 로터리 피드 쓰루(rotary feed through)를 통해서 상기 회전부와 상기 모터를 연결하는 샤프트를 포함하는 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
6 6
제1항에 있어서,상기 챔버는 투명한 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
7 7
제1항에 있어서,상기 여기장치는,할로겐 램프, 초음파 발생장치, 마이크로파 발생장치, 적외선 발생장치, 자외선 발생장치, 레이저 발생장치, 열선 및 가열파이프로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
8 8
제1항에 있어서,상기 반응 챔버를 냉각 시키도록, 상기 반응 챔버의 외부에 설치되는 냉각장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 여기장치를 구비한 플라스마 표면처리장치
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.