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플라즈마 발생 환경이 조성된 챔버 내에서 샘플의 표면을 처리하기 위한 플라즈마 처리장치에 있어서,전원 전극;상기 전원 전극으로부터 분리되며 상기 전원 전극의 주변에 배치되고, 상기 전원 전극의 주변을 따라 둘레에 제공되는 측벽부를 포함하며, 원통 또는 다각기둥 형상인 접지 전극; 및상기 전원 전극에 펄스 직류 전원을 공급하는 전원 공급부;를 구비하며, 상기 접지 전극은 상기 전원 전극의 상부에 해당하는 부위가 개방되어 있거나, 상기 전원 전극의 상부에 위치하며 다수의 홀을 포함하는 상부판을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 챔버와 전기적으로 연결 또는 분리된 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제2항에 있어서,상기 접지 전극은 다수의 홀을 포함하는 판, 메쉬 또는 채(sieve) 형상을 이용하여 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 전원 전극 및 상기 접지 전극 사이에 개재되는 절연체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 전원 전극은 상기 샘플을 고정하기 위한 고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 샘플을 고정하기 위한 고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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삭제
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8
삭제
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제1항에 있어서,상기 전원 공급부는 1~10,000W의 펄스 직류 전원을 공급하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서, 상기 전원 공급부는 펄스 전압, 펄스 전류, 펄스 전력, 펄스 주파수, 펄스 리버스 시간 중 적어도 하나 이상을 제어하여 상기 펄스 직류 전원을 공급할 수 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서, 상기 챔버 내의 압력을 조절하기 위하 배기부 및 상기 챔버 내의 압력을 측정하기 위한 압력 센서를 포함하며,상기 배기부는 로터리 펌프, 부스터 펌프, 드라이 펌프를 포함하는 저진공 펌프, 터보 분자 펌프, 확산 펌프, 크라이오 펌프를 포함하는 고진공 펌프 중 적어도 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 펄스 직류 전원의 펄스 주파수는 0 초과 500 KHz 이하인 범위에 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치
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