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기판의 플라즈마 처리장치

  • 기술번호 : KST2015192925
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판의 플라즈마 처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 임피던스 변조기(impedence transformer)가 부가된 펄스 직류 전원 공급기를 이용하여 보다 높은 전류를 인가할 수 있는 기판의 플라즈마 처리장치에 관한 것이다. 본 발명의 임피던스 트랜스포머가 부가된 펄스 직류 플라즈마 처리장치의 경우 임피던스 트랜스포머를 추가하지 않은 경우보다 비교적 낮은 펄스 전압(300 V)에서도 플라즈마를 쉽게 발생시킬 수 있으며, 동일한 전압에서 펄스 직류 전원 공급기로부터 더 많은 전류를 플라즈마 전극으로 보낼 수 있어, 고정된 펄스 전압 조건에서 보다 고출력의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H03H 7/40 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01)
CPC H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01) H01J 37/32532(2013.01)
출원번호/일자 1020120016850 (2012.02.20)
출원인 인제대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0095433 (2013.08.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.02.20)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인제대학교 산학협력단 대한민국 경남 김해시 인제로 *

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이제원 대한민국 부산 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김태선 대한민국 서울(해산으로 인한 퇴사 후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0133485-12
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2012-5124408-82
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.18 수리 (Accepted) 4-1-2012-5216806-20
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0486780-36
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-0832900-55
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0928211-89
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0960516-49
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0960528-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2013-5175090-75
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0077973-04
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.03.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0207886-44
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0229896-52
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.06.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5100061-64
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2017-5214791-60
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5082225-25
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149036-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반응 챔버;상기 반응 챔버 내 기판을 유지하는 제1전극;상기 반응 챔버 내에, 상기 제1전극과 대향하도록 배치된 제 2 전극;소정의 DC 펄스를 상기 제1전극에 인가하도록 구성된 전원 공급부; 및상기 전원 공급부와 상기 제1 전극 사이에 위치하는 임피던스 변조기를 포함하는 기판의 플라즈마 처리장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 임피던스 변조기는 적어도 하나 이상의 저항 성분을 포함하여 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 플라즈마 처리장치
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 임피던스 변조기는 상기 전원 공급부와 상기 제 1 전극 사이에 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 임피던스 변조기의 저항 성분이 상기 제 1 전극과 병렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 기판의 플라즈마 처리장치
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 저항 성분은 커패시터 또는 인덕터인 것을 특징으로 하는 기판의 플라즈마 처리장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 전원 공급부로부터 공급되는 DC 펄스의 펄스 주파수는 100 kHz 이상인 것을 특징으로 하는 기판의 플라즈마 처리장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 전원 공급부로부터 공급되는 DC 펄스의 펄스 전압은 450 V 이상인 것을 특징으로 하는 기판의 플라즈마 처리장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.