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(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 PDMS 용액을 주입하고 경화처리하여 PDMS(polydimethylsiloxane) 복제몰드를 형성하는 단계; (b) 상기 PDMS 복제몰드를 250~350 ℃로 열처리 한 다음 실온으로 냉각시켜 PDMS 복제몰드를 수축시키는 단계; (c) 상기 수축된 PDMS 복제몰드 위에 PDMS 용액을 주입하고 경화처리하여 PDMS 스탬프를 제조하는 단계; 및 (d) 상기 PDMS 스탬프를 PDMS 복제몰드로부터 박리시키는 단계를 포함하는 3차원 폴리디메틸실옥산 몰드 또는 스탬프의 크기 조절 방법
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(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 PDMS 용액을 주입하고 경화처리하여 PDMS(polydimethylsiloxane) 복제몰드를 형성하는 단계; (b) 상기 PDMS 복제몰드를 250~350 ℃로 열처리 한 다음 실온으로 냉각시켜 PDMS 복제몰드를 수축시키는 단계; (c) 상기 수축된 PDMS 복제몰드 위에 PDMS 용액을 주입하고 경화처리하여 PDMS 스탬프를 제조하는 단계; (d) 상기 PDMS 스탬프를 PDMS 복제몰드로부터 박리시키는 단계; 및 (e) (b)단계 내지 (d)단계를 원하는 횟수로 반복하여 PDMS 몰드의 크기를 조절하는 단계를 포함하는 3차원 폴리디메틸실옥산 몰드 또는 스탬프의 크기 조절 방법
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상기 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (a)단계의 실리콘 몰드의 패턴은 정사각형, 직사각형, 원형, 채널 또는 챔버 형태인 것을 특징으로 하는 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (b)단계는 열처리는 300 ℃인 것을 특징으로 하는 방법
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제1항 또는 제2항의 방법으로 크기가 조절된 3차원 폴리디메틸실옥산 몰드
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제1항 또는 제2항의 방법으로 크기가 조절된 3차원 폴리디메틸실옥산 스탬프
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