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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 2로 표시되는 아민 계면활성제:<화학식 2>상기 식에서 R1, R2, R3는 각각 또는 동시에 -CH(CH3)2, -(CH2)nC(CH3)3, -(CH2)nCH3, -CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3로 치환된다(여기서 n은 0~5 사이의 정수이다)
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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 3 내지 화학식 9로 표시되는 화합물로 구성된 군 중에서 선택되는 것인 아민 계면활성제:<화학식 3>(상기 식에서, R1, R2 및 R3는 H 또는 CH3이고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 치환되거나 동시에 치환되는 아세틸기, 트리메틸아세틸기, 3,5,5-트리메틸헥사노일기로부터 선택된다)<화학식 4>(상기 식에서, R1, R2는 각각 독립적으로 치환되거나 동시에 치환되는 아세틸기, 트리메틸아세틸기, 3,5,5-트리메틸헥사노일기로부터 선택된다)<화학식 5><화학식 6><화학식 7><화학식 8><화학식 9>(상기한 화학식 5부터 화학식 9에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 치환되거나 동시에 치환되는 아세틸기, 트리메틸아세틸기, 3,5,5-트리메틸헥사노일기로부터 선택된다)
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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 10으로 표시되는 염 형태의 아민 계면활성제:<화학식 10>(상기 식에서, N은 화학식 2부터 화학식 9로 표시되는 신규로 합성된 아민 중 하나이다
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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 11로 표시되는 베타인 형태의 아민 계면활성제:<화학식 11>(상기 식에서, N은 화학식 2부터 화학식 9로 표시되는 신규로 합성된 아민 중 하나이고, n은 3 또는 4이다)
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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 12로 표시되는 아민옥사이드 형태의 아민 계면활성제:<화학식 12>(상기 식에서, N은 화학식 2부터 화학식 9로 표시되는 신규로 합성된 아민 중 하나이다)
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환경친화적인 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 계면활성제에 있어서, 하기 화학식 13으로 표시되는 아민 계면활성제:<화학식 13>(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 치환되거나 동시에 치환되는 아세틸기, 트리메틸아세틸기, 3,5,5-트리메틸헥사노일기로부터 선택된다)
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이산화탄소 유체와 오염된 기판이 접촉하는 도중 또는 접촉하기 전에 제3항과 제5항 중 어느 한 항에 제시된 신규 아민 계면활성제를 이산화탄소 유체에 용해 또는 분산시켜 사용하거나, 또는 오염된 기판에 이산화탄소 유체를 첨가하기 전에 먼저 아민 계면활성제를 첨가하여 오염된 기판과 접촉시키는 것을 포함하여, 이산화탄소 유체와 함께 제3항과 제5항 중 어느 한 항에 제시된 아민 계면활성제를 1종 또는 그 이상의 혼합물로 사용하여 이산화탄소 유체에 의한 각종 전자 기판의 세정 효율을 향상시키는 방법
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이산화탄소 유체와 오염된 기판이 접촉하는 도중 또는 접촉하기 전에 제6항에 제시된 염 형태의 신규 아민 계면활성제를 이산화탄소 유체에 용해 또는 분산시켜 사용하거나, 또는 오염된 기판에 이산화탄소 유체를 첨가하기 전에 먼저 아민 계면활성제를 첨가하여 오염된 기판과 접촉시키는 것을 포함하여, 이산화탄소 유체와 함께 제6항에 제시된 염 형태의 아민 계면활성제를 1종 또는 그 이상의 혼합물로 사용하여 이산화탄소 유체에 의한 각종 전자 기판의 세정 효율을 향상시키는 방법
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이산화탄소 유체와 오염된 기판이 접촉하는 도중 또는 접촉하기 전에 제7항에 제시된 베타인 형태의 아민 계면활성제를 이산화탄소 유체에 용해 또는 분산시켜 사용하거나, 또는 오염된 기판에 이산화탄소 유체를 첨가하기 전에 먼저 아민 계면활성제를 첨가하여 오염된 기판과 접촉시키는 것을 포함하여, 이산화탄소 유체와 함께 제7항에 제시된 베타인 형태의 아민 계면활성제를 1종 또는 그 이상의 혼합물로 사용하여 이산화탄소 유체에 의한 각종 전자 기판의 세정 효율을 향상시키는 방법
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