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초임계이산화탄소 내에서 초음파를 이용한 오염물질의 제거방법

  • 기술번호 : KST2015193839
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 환경친화적인 초임계이산화탄소 내에서 오염물질을 효과적으로 제거하는데 유용한 초음파 장비 및 이를 이용하여 초임계이산화탄소 내에서 오염물질을 효과적으로 제거하는 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 초음파 장비를 고압 반응기 내부에 장착하고 초음파 로드의 단면적을 크게 하여 단위시간당 초음파 에너지의 양을 증가시켜 지지체 상부의 오염물질을 제거하므로 세정시간을 단축시키며, 지지체 표면의 미세 패턴을 손상시키지 않고 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 효과가 있다. 초임계이산화탄소, 초음파, 패턴 세정
Int. CL B08B 3/12 (2006.01.01) B08B 3/08 (2006.01.01) B08B 7/02 (2006.01.01) B08B 15/02 (2006.01.01)
CPC B08B 3/12(2013.01) B08B 3/12(2013.01) B08B 3/12(2013.01) B08B 3/12(2013.01)
출원번호/일자 1020080009860 (2008.01.31)
출원인 부경대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0083969 (2009.08.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.31)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임권택 대한민국 부산광역시 부산진구
2 이민영 대한민국 부산 해운대구
3 김승호 대한민국 부산 부산진구

대리인

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최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2008-0080188-07
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.11.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.12.05 수리 (Accepted) 9-1-2008-0078374-43
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0209306-16
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.07.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0433136-58
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0433102-17
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0433755-00
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0464480-12
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.01.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0014759-34
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2010-0014746-41
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2010.05.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0187810-24
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2019-5132722-09
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5161225-98
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2019-5277245-32
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2020-5172403-90
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
초임계이산화탄소 내에서 초음파 장비를 이용한 오염물질의 제거 방법은 1) 고압 반응기(16)에 오염물질을 가지는 지지체를 넣고 초음파 장비(20)에 부착된 덮개(2)로 고압 반응기(16)를 밀폐하는 단계; 2) 세정물질이 포함된 초임계 이산화탄소를 고압 반응기(16)에 주입하는 단계 3) 초음파 장비(20)를 이용하여 오염물질을 제거하는 단계; 4) 3)로부터 초임계 유체 혼합물을 분리하는 단계; 5) 순수한 초임계이산화탄소를 사용하여 지지체 상부를 헹구는 단계; 6) 5)로부터 순수한 초임계이산화탄소를 제거하고 오염물질이 제거된 지지체를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
2 2
제1항에 있어서, 초음파 장비는 1)에너지 발생기; 2)고압 반응 용기에 장착할 수 있는 덮개; 3)초음파 진동을 발생시키는 로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
3 3
제2항에 있어서, 초음파 진동을 발생시키는 로드는 석영, 사파이어, 탄화규소, 질화붕소 및 탄소유리로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 조합으로 구성되는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
4 4
제3항에 있어서, 로드는 단면적을 지지체와 유사하게 하여 특정한 부위에 초음파가 집중되지 않고, 고르게 분산되도록 설계되는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
5 5
제1항에 있어서, 세정물질은 계면활성제, 공용매 및 기타 첨가제이고, 오염물질의 종류에 따라 어느 하나를 사용하거나, 또는 이들을 혼합하거나 또는 순차적으로 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
6 6
제1항에 있어서, 지지체는 반도체 웨이퍼, 알루미늄-알루미늄 산화막 기판, 갈륨 비소 기판, 세라믹 기판, 구리 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
7 7
제1항에 있어서, 오염물질은 물, 수용성 이온, 파티클, 포토레지스트, 반도체의 각 프로세서 과정에서 경화되거나 탄화된 포토레지스트, 에칭과 에싱 잔여물 인 것을 특징으로 하는 오염물질을 제거하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.