요약 | 본 발명은 플라즈마 식각/애싱 후 손상된 낮은 유전 상수의 절연층에 사용되는 낮은 유전 상수의 오가노실리케이트 필름의 특성을 초임계이산화탄소를 이용하여 복원하는 방법으로서, 손상된 필름을 상압에서 열처리하고, 초임계이산화탄소 내에서 실릴화제를 이용하여 표면 내부까지 소수성을 갖도록 복원하는 기술에 관한 것이다. 초임계이산화탄소, 낮은 유전 막질, 반도체, 다마신공정, 실릴화반응, 인터코넥트 |
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Int. CL | H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01) |
CPC | H01L 21/02312(2013.01) H01L 21/02312(2013.01) H01L 21/02312(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080091629 (2008.09.18) |
출원인 | 부경대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2010-0032652 (2010.03.26) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.09.18) |
심사청구항수 | 5 |