요약 | 본 발명은 플라즈마 식각/애싱 후 손상된 낮은 유전 상수의 절연층에 사용되는 낮은 유전 상수의 다공성 저유전 필름을 초임계이산화탄소를 이용하여 균일하고 신속하게 보수하는 방법으로서, 손상된 필름의 특성을, 통상적인 기상 또는 액상 반응과는 달리, 초임계 이산화탄소 내에서 초음파를 사용하고 실릴화제를 이용하여 필름 내부까지 복원하는 기술에 관한 것이다. 초임계이산화탄소, 다공성 낮은 유전 필름, 반도체, 다마신공정, 실릴화반응, 인터코넥트, 초음파 |
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Int. CL | H01L 21/3105 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) |
CPC | H01L 21/3105(2013.01) H01L 21/3105(2013.01) H01L 21/3105(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090090242 (2009.09.23) |
출원인 | 부경대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2011-0032648 (2011.03.30) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 포기 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.09.23) |
심사청구항수 | 5 |