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초임계 이산화탄소에 적용되는 계면활성제, 이를 활용하여이산화탄소 유체에 의한 각종 전자 기판의 세정 효율을향상시키는 방법

  • 기술번호 : KST2015194120
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 환경친화적인 이산화탄소에 적용 가능한 올리고에틸렌글리콜메틸에테르메타크릴레이트(oligo(ethylene glycol)methyl ether methacrylate, OEGMA)와 퍼플루오르옥틸메타크릴레이트(perfluorooctylmethacrylate, FOMA)의 공중합체 및 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(2-(dimethylamino)ethylmethacrylate, DMAEMA)와 퍼플루오르옥틸메타크릴레이트(perfluorooctylmethacrylate, FOMA) 공중합체 계면활성제의 제조 및 이를 이용한 반도체 세정과 패턴 붕괴 방지에 관한 것이다. 상술한 계면활성제는 불소 성분으로 친이산화탄소(CO2 philic) 특성을, 올리고에틸렌글리콜메틸에테르메타크릴레이트(OEGMA) 또는 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(DMAEMA) 성분으로 친유성함과 동시에 친수성한 특성을 보유하므로 이산화탄소에 적용하여 세정력을 보다 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 본 발명에서는 친이산화탄소 성분과 소이산화탄소 성분이 포함된 공중합체를 원자 전이 라디칼 중합(atom transfer radical polymerization, ATRP), 기 이동 중합 (group transfer polymerization, GTP) 또는 라디칼 중합을 이용하여 쉽게 제조한다. 이와 같은 본 발명의 계면활성제는 물을 흡수하는 성질이 좋아서, 액체 또는 초임계 이산화탄소와 함께 사용하여 각종 기판, 예컨대 반도체 기판, 마이크로 기전 복합소자(MEMs), 디스플레이 패널 또는 광전 소자(optoelectronic device) 등으로부터 오염물, 예컨대 물, 수용성 용매(현상액) 및 이온성 부산물을 제거하는데 효과적이며, 기판에 어떠한 손상도 주지 않는다. 따라서, 본 발명은 이산화탄소 유체를 이용하여 각종 전자 기판의 오염물을 제거하는데 유용한 본 발명의 공중합체 계면활성제의 용도를 제공한다.이산화탄소, 계면활성제, 반도체 세정
Int. CL C11D 1/86 (2006.01.01) C11D 1/00 (2006.01.01) C11D 11/00 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC C11D 1/86(2013.01) C11D 1/86(2013.01) C11D 1/86(2013.01) C11D 1/86(2013.01) C11D 1/86(2013.01)
출원번호/일자 1020050076103 (2005.08.19)
출원인 부경대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0798363-0000 (2008.01.21)
공개번호/일자 10-2007-0021629 (2007.02.23) 문서열기
공고번호/일자 (20080128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.08.19)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임권택 대한민국 부산광역시 부산진구

대리인

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최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2005-0456085-52
2 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2006.07.05 수리 (Accepted) 1-1-2006-0483570-52
3 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2006.07.12 수리 (Accepted) 1-1-2006-0498199-66
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0489136-36
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.10.23 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2006-0760805-62
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2006-0760809-44
7 서류반려이유안내서
Notice of Reason for Return of Document		 2006.11.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2006-0139785-29
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.11.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0854855-61
9 의견서
Written Opinion		 2006.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0854847-06
10 서류반려안내서
Notification for Return of Document		 2006.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2006-0150495-08
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2007.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0127764-33
12 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2007.04.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2007-0013550-23
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.04.23 수리 (Accepted) 4-1-2007-5062572-56
14 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2007.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0279799-06
15 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination		 2007.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0279803-02
16 등록결정서
Decision to grant		 2008.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0007273-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2019-5132722-09
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5161225-98
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2019-5277245-32
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2020-5172403-90
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번호 청구항
1 1
오염된 각종 기판으로부터 오염물질을 제거하기 위하여 액체 또는 초임계 이산화탄소를 이용하는 세정방법에 있어서, 패턴의 변형과 손상을 방지하는 것을 특징으로 하고, 친이산화탄소성을 나타내는 부분 불소화된 메타크릴레이트를 함유함과 동시에 친유성과 친수성한 성질을 나타내는 올리고에틸렌글리콜메틸에테르메타크릴레이트(OEGMA) 또는 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(DMAEMA)를 함유하는 화합물을 계면활성제로 포함하는 것을 특징으로 하는 세정방법
2 2
제 1항에 있어서, 각종 기판은 반도체 소자, 마이크로기전 복합 소자(MEMs), 평판 디스플레이 패널, 또는 광전 소자를 포함하여서 됨을 특징으로 하는 세정방법
3 3
제 1항에 있어서, 오염물질은 물, 수용성 용매 및 이온성 부산물을 포함하여서 됨을 특징으로 하는 세정방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1항에 있어서, 이산화탄소 유체와 오염된 기판이 접촉하는 도중 또는 접촉하기 전에 계면활성제를 이산화탄소 유체에 용해 또는 분산시켜 사용하거나, 또는 오염된 기판에 이산화탄소 유체를 첨가하기 전에 먼저 계면활성제를 첨가하여 오염된 기판과 접촉시키는 것을 포함하여, 이산화탄소 유체와 함께 계면활성제를 1종 또는 그 이상의 혼합물로 사용하여 패턴 손상 없이 이산화탄소 유체에 의한 각종 전자 기판의 세정 효율을 향상시키는 것을 특징으로하는 세정 방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제 1항에 있어서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 계면활성제 화학식 1여기서 화학식 1은 블록 또는 랜덤 공중합체이고, R1은 CH2CH2N(CH3)2 또는 (CH2CH2O)ℓCH3이고, R2는 CH2(CF2)6CF3, CH2CH2(CF2)5CF3 또는 CH2CF2CF2CF3이다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.