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고분자 입자를 포함하는 광학요소 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015194293
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광학 요소 및 이의 제조방법을 제공한다. 광학 요소는 베이스 기판을 구비한다. 베이스 기판의 일면 상에 광변환층이 배치된다. 광변환층은 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자를 함유하는 고분자 입자 및 양자점을 구비한다.
Int. CL H01L 33/50 (2010.01) G02B 1/00 (2006.01) C09K 11/02 (2006.01)
CPC G02B 1/00(2013.01) G02B 1/00(2013.01) G02B 1/00(2013.01) G02B 1/00(2013.01) G02B 1/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130028213 (2013.03.15)
출원인 세종대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1584852-0000 (2015.11.30)
공개번호/일자 10-2013-0105547 (2013.09.25) 문서열기
공고번호/일자 (20160114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120027039   |   2012.03.16
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020130108030;
심사청구여부/일자 Y (2013.03.15)
심사청구항수 29

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서영수 대한민국 서울 노원구
2 박상율 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0228183-68
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0742037-23
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.09.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0823432-88
4 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2013.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-0823724-15
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.03.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.04.08 수리 (Accepted) 9-1-2014-0028782-59
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0290589-60
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0606232-19
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0708660-06
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.07.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0708675-80
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0839515-79
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2015-0120864-12
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.03.05 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0219670-50
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0219669-14
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.07.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0450428-72
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2015-0754684-48
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2015.08.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0754685-94
18 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2015.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0585781-06
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
베이스 기판; 및상기 베이스 기판의 일면 상에 배치된 광변환층을 포함하되,상기 광변환층은 고분자 입자 및 상기 고분자 입자의 표면 상에 위치한 양자점을 구비하고,상기 고분자 입자는 극성작용기를 갖는 고분자를 함유하고, 적층된 다수의 결정성 판들을 포함하는 광학 요소
2 2
제1항에 있어서,상기 고분자는 상기 극성작용기를 측쇄에 갖는 결정성 고분자이고,상기 고분자 입자는 상기 결정성 판들 사이에 배치된 무정형 고분자를 더 포함하는 광학 요소
3 3
제1항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 70도에서 200도(℃) 사이의 연화점을 갖는 광학 요소
4 4
제1항에 있어서,상기 극성작용기는 산소성분을 포함하는 작용기인 광학 요소
5 5
제4항에 있어서,상기 산소성분은 -OH, -COOH, -COH, -O-, 또는 -CO 인 광학 요소
6 6
제1항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 고분자인 광학 요소
7 7
제1항 또는 제6항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자의 주쇄는 폴리올레핀, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 광학 요소
8 8
제7항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 폴리올레핀, 부분 산화된 폴리스티렌, 부분 산화된 폴리에스터, 부분 산화된 폴리카보네이트, 부분 산화된 폴리아마이드, 부분 산화된 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 고분자인 광학 요소
9 9
제8항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 폴리올레핀 왁스인 광학 요소
10 10
제1항 또는 제6항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 폴리올레핀, 폴리스티렌, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 고분자와 폴리말레산무수물(polymaleic anhydride)의 공중합체인 광학 요소
11 11
제10항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스인 광학 요소
12 12
제1항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 1 내지 100 mgKOH/g의 산가를 갖는 광학 요소
13 13
제12항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 3 내지 40 mgKOH/g의 산가를 갖는 광학 요소
14 14
제1항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 경화가능한(crosslinkable) 치환기를 갖고,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 경화가능한 치환기들로 인해 경화된 광학 요소
15 15
제1항에 있어서,상기 고분자 입자는 무기물질로 패시베이션된 광학 요소
16 16
제15항에 있어서,상기 무기물질은 티타늄 산화물, 실리콘 산화물, 알루미늄 산화물, 그래핀, 그래핀 산화물, 및 탄소나노튜브로 이루어진 군에서 선택되는 무기물의 입자인 광학 요소
17 17
제1항에 있어서,상기 고분자 입자는 상기 극성작용기를 갖는 고분자에 비해 평균분자량이 큰 고분자량 고분자를 더 함유하는 광학 요소
18 18
제17항에 있어서,상기 고분자량 고분자는 상기 극성작용기를 갖는 고분자의 주쇄와 동일한 고분자인 광학 요소
19 19
제17항 또는 제18항에 있어서,상기 고분자량 고분자는 LDPE 또는 HDPE인 광학 요소
20 20
제17항에 있어서,상기 고분자량 고분자는 상기 극성작용기를 갖는 고분자 100 중량부에 대해 5 내지 30 중량부로 함유되는 광학 요소
21 21
제1항에 있어서,상기 베이스 기판은 광투과성 고분자 필름 또는 유리 기판인 광학 요소
22 22
제1항에 있어서,상기 베이스 기판은 그의 상부에 발광다이오드가 실장된 기판이고,상기 광변환층은 상기 고분자 입자 및 상기 양자점이 봉지 수지 내에 분산된 층인 광학 요소
23 23
제22항에 있어서,상기 봉지 수지 내에 분산된 형광체를 더 포함하는 광학 요소
24 24
베이스 기판을 제공하는 단계;극성작용기를 갖는 고분자를 용매 중에서 가열하여 고분자 용액을 형성하고, 상기 고분자 용액을 냉각시켜 적층된 다수의 결정성 판들을 구비하는 고분자 입자를 얻는 단계; 및상기 고분자 입자 및 양자점이 분산된 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 단계를 포함하는 광학 요소 제조방법
25 25
제24항에 있어서,상기 베이스 기판은 플레이트형 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 것은 상기 분산액을 상기 베이스 기판의 상부면 상에 코팅하는 것인 광학 요소 제조방법
26 26
제24항에 있어서,상기 베이스 기판은 튜브형 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 것은 상기 분산액을 상기 베이스 기판의 내부면 상에 모세관 현상을 사용하여 코팅하는 것인 광학 요소 제조방법
27 27
제24항에 있어서,상기 베이스 기판은 그의 상부에 발광다이오드가 실장된 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판 상에 제공하는 것은 상기 분산액에 봉지 수지를 혼합한 혼합액을 상기 베이스 기판 상에 제공하는 것인 광학 요소 제조방법
28 28
제27항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 경화가능한(crosslinkable) 치환기를 갖고,상기 봉지 수지를 경화시킴과 동시에 상기 경화가능한 치환기도 경화되는 광학 요소 제조방법
29 29
제24항에 있어서,상기 극성작용기를 갖는 고분자는 경화가능한(crosslinkable) 치환기를 갖고,상기 분산액을 상기 베이스 기판 상에 제공한 후, 상기 극성작용기를 갖는 고분자를 경화하는 단계를 더 포함하는 광학 요소 제조방법
30 30
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1 교육과학기술부 세종대학교 산학협력단 중견연구자지원사업 플렉서블 투명 1-2차원 탄소나노소재의 밴드갭 엔지니어링 및 유기반도체 적용 연구