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양자점- 고분자 복합체 입자, 상기 복합체 입자를 포함하는 광학요소, 및 상기 광학요소의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015194310
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 양자점- 고분자 복합체 입자, 상기 복합체 입자를 포함하는 광학요소, 및 상기 광학요소의 제조방법을 제공한다. 상기 양자점-고분자 복합체 입자는 적층된 다수의 결정성 고분자 판들을 구비하는 고분자 매트릭스를 포함한다. 상기 결정성 고분자 판들 사이에 다수 개의 양자점들이 배치된다.
Int. CL H01L 33/50 (2010.01) G02B 1/04 (2006.01) C09K 11/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130016864 (2013.02.18)
출원인 세종대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1574842-0000 (2015.11.30)
공개번호/일자 10-2013-0105346 (2013.09.25) 문서열기
공고번호/일자 (20151208) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120027039   |   2012.03.16
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020150080047;1020150080129;
심사청구여부/일자 Y (2015.03.24)
심사청구항수 28

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서영수 대한민국 서울 노원구
2 박상율 대한민국 서울특별시 성동구
3 손혜미 대한민국 경기 화성시 효행로 ***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 세종대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구 능동로 *** (군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0141900-36
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0286373-54
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.03.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0286372-19
4 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2015.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0545425-94
5 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2015.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0545830-72
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.06.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0545384-10
7 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0546113-22
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.06.22 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.07.03 수리 (Accepted) 9-1-2015-0042744-98
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0482537-34
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0762101-96
12 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2015.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0762103-87
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.08.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0762102-31
14 등록결정서
Decision to grant		 2015.09.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0612455-50
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
적층된 다수의 결정성 고분자 판들을 구비하는 고분자 매트릭스; 및상기 결정성 고분자 판들 사이에 배치된 다수 개의 양자점들을 포함하고,타원체의 형태를 갖는 양자점-고분자 복합체 입자
2 2
제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스를 함유하는 양자점-고분자 복합체 입자
3 3
제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 산소성분이 주쇄 및 측쇄에 불규칙하게 도입된 폴리올레핀을 함유하는 양자점-고분자 복합체 입자
4 4
제3항에 있어서,상기 산소성분은 -OH, -COOH, -COH, -O-, 또는 -CO 인 양자점-고분자 복합체 입자
5 5
제3항에 있어서,상기 폴리올레핀은 70도에서 200도(℃) 사이의 연화점을 갖는 양자점-고분자 복합체 입자
6 6
제3항에 있어서,상기 폴리올레핀은 1 내지 100 mgKOH/g의 산가를 갖는 양자점-고분자 복합체 입자
7 7
제6항에 있어서,상기 폴리올레핀은 3 내지 40 mgKOH/g의 산가를 갖는 양자점-고분자 복합체 입자
8 8
제1항에 있어서,상기 양자점-고분자 복합체 입자의 표면 상에 배치된 무기물질을 더 포함하는 양자점-고분자 복합체 입자
9 9
제8항에 있어서,상기 무기물질은 무기물 입자들인 양자점-고분자 복합체 입자
10 10
제8항에 있어서,상기 무기물질은 티타늄 산화물, 실리콘 산화물, 및 알루미늄 산화물로 이루어진 군에서 선택되는 무기물질인 양자점-고분자 복합체 입자
11 11
삭제
12 12
제1항에 있어서,상기 양자점-고분자 복합체 입자는 장축 방향 또는 단축 방향 길이가 수 내지 수십 ㎛인 양자점-고분자 복합체 입자
13 13
제1항에 있어서,상기 양자점-고분자 복합체 입자는 두께가 수십 ㎚ 내지 수 ㎛인 양자점-고분자 복합체 입자
14 14
제1항에 있어서,상기 양자점들은 상기 고분자 매트릭스의 내부 영역에 배치되고, 상기 고분자 매트릭스의 내부 영역을 감싸는 외곽 영역의 적어도 일부에는 위치하지 않은 양자점-고분자 복합체 입자
15 15
베이스 기판; 및상기 베이스 기판의 일면 상에 배치된 제1항의 양자점-고분자 복합체 입자를 포함하는 광학 요소
16 16
제15항에 있어서,상기 베이스 기판은 광투과성 필름이고,상기 광학 요소는 광학 필름인 광학 요소
17 17
제15항에 있어서, 상기 베이스 기판은 고분자 필름 또는 유리 기판인 광학 요소
18 18
제15항에 있어서,상기 베이스 기판은 플레이트형이고, 상기 양자점-고분자 복합체 입자는 상기 베이스 기판의 상부면 상에 배치된 광학 요소
19 19
제15항에 있어서,상기 베이스 기판은 튜브형이고, 상기 양자점-고분자 복합체 입자는 상기 베이스 기판의 내부면 상에 배치된 광학 요소
20 20
제15항에 있어서,상기 베이스 기판은 그의 상부에 발광다이오드가 실장된 기판이고,상기 양자점-고분자 복합체 입자들은 봉지 수지 내에 분산되어 상기 베이스 기판 상에 배치된 광학 요소
21 21
제20항에 있어서,상기 봉지 수지는 에폭시 수지, 페놀수지, 폴리에스테르, 실리콘 수지, 아크릴레이트 수지, 우레탄-아크릴레이트 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 광학 요소
22 22
제15항의 광학 요소를 구비하는 광학 장치
23 23
제1항의 양자점-고분자 복합체 입자가 용매 내에 분산된 분산액
24 24
제23항에 있어서,상기 용매는 톨루엔 또는 에탄올인 분산액
25 25
베이스 기판을 제공하는 단계; 및제1항의 양자점-고분자 복합체 입자가 분산된 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 단계를 포함하는 광학 요소 제조방법
26 26
제25항에 있어서,상기 베이스 기판은 플레이트형 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 것은 상기 분산액을 상기 베이스 기판의 상부면 상에 코팅하는 것인 광학 요소 제조방법
27 27
제25항에 있어서,상기 베이스 기판은 튜브형 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판의 일면 상에 제공하는 것은 상기 분산액을 상기 베이스 기판의 내부면 상에 모세관 현상을 사용하여 코팅하는 것인 광학 요소 제조방법
28 28
제25항에 있어서,상기 베이스 기판은 그의 상부에 발광다이오드가 실장된 기판이고,상기 분산액을 상기 베이스 기판 상에 제공하는 것은 상기 분산액에 봉지 수지를 혼합한 혼합액을 상기 베이스 기판 상에 제공하는 것인 광학 요소 제조방법
29 29
제28항에 있어서,상기 봉지 수지는 에폭시 수지, 페놀수지, 폴리에스테르, 실리콘 수지, 아크릴레이트 수지, 우레탄-아크릴레이트 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 광학 요소 제조방법
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1 지식경제부 세종대학교 산학협력단 산업원천기술개발 양자점 표면개질 및 폴리머 분산기술