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측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자를 용매 중에서 가열하여 고분자 용액을 형성하는 단계; 및상기 고분자 용액을 냉각시켜, 상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자가 자기조립된 결정질 고분자 마이크로 입자를 얻는 단계를 포함하는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 결정성 고분자인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 70도에서 200도(℃) 사이의 연화점을 갖는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 극성작용기는 산소성분을 포함하는 작용기인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제4항에 있어서,상기 산소성분은 -OH, -COOH, -COH, -O-, 또는 -CO 인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 고분자인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항 또는 제6항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자의 주쇄는 폴리올레핀, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제7항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 폴리올레핀, 부분 산화된 폴리스티렌, 부분 산화된 폴리에스터, 부분 산화된 폴리카보네이트, 부분 산화된 폴리아마이드, 부분 산화된 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 고분자인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제8항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 폴리올레핀 왁스인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항 또는 제6항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 폴리올레핀, 폴리스티렌, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 고분자와 폴리말레산무수물(polymaleic anhydride)의 공중합체인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제10항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 1 내지 100 mgKOH/g의 산가를 갖는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제12항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 3 내지 40 mgKOH/g의 산가를 갖는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 마이크로 입자의 표면을 무기물질로 패시베이션하는 단계를 더 포함하는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 용액은 상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자에 비해 평균분자량이 큰 고분자량 고분자를 더 함유하는 고분자 마이크로 입자 제조방법
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제15항에 있어서,상기 고분자량 고분자는 상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자의 주쇄와 동일한 고분자인 고분자 마이크로 입자 제조방법
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측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자가 자기조립된 결정질 고분자 매트릭스를 구비하는 고분자 마이크로 입자
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제17항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 부분 산화된 폴리올레핀 왁스인 고분자 마이크로 입자
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제17항에 있어서,상기 고분자 마이크로 입자의 표면을 패시베이션하는 무기물질을 더 포함하는 고분자 마이크로 입자
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제17항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자에 비해 평균분자량이 큰 고분자량 고분자를 더 함유하는 고분자 마이크로 입자
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제17항에 있어서,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 경화가능한(crosslinkable) 치환기를 갖고,상기 측쇄에 극성작용기를 갖는 고분자는 상기 경화가능한 치환기들로 인해 경화된 고분자 마이크로 입자
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제21항에 있어서,상기 경화가능한 치환기는 싸이클릭 에테르(cyclic ether), 이소시아네이트(isocyanate), 아크릴레이트(acrylate) 또는 싸이올(thiol)인 고분자 마이크로 입자
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