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폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스를 함유하고 적층된 다수의 결정성 고분자 판들을 구비하는 고분자 매트릭스; 및상기 결정성 고분자 판들 사이에 배치된 다수 개의 양자점들을 포함하되,폴리에틸렌 결정구조를 갖는 양자점-고분자 복합체 입자
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제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 상기 결정성 고분자 판들 사이에 배치된 무정형 고분자를 포함하는 양자점-고분자 복합체 입자
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제1항에 있어서,상기 양자점-고분자 복합체 입자는 장축 방향 또는 단축 방향 길이가 수 내지 수십 ㎛이고, 두께가 수십 ㎚ 내지 수 ㎛인 양자점-고분자 복합체 입자
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제1항에 있어서,상기 양자점들은 상기 고분자 매트릭스의 내부 영역에 배치되고, 상기 고분자 매트릭스의 외곽 영역에는 위치하지 않은 양자점-고분자 복합체 입자
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제1항에 있어서,상기 폴리에틸렌 결정구조는 X선 회절 스펙트럼을 통해서 확인할 수 있는 양자점-고분자 복합체 입자
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폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스를 제1 용매 중에서 가열하여 고분자 용액을 형성하는 단계;제2 용매 내에 양자점들이 분산된 양자점 분산액을 상기 고분자 용액 내에 첨가하여 혼합액을 형성하는 단계; 및상기 혼합액을 냉각시켜, 적층된 다수의 결정성 고분자 판들을 구비하는 고분자 매트릭스와 상기 결정성 고분자 판들 사이에 배치된 다수 개의 양자점들을 포함하고, 폴리에틸렌 결정구조를 갖는 양자점-고분자 복합체 입자를 형성하는 단계를 포함하는 양자점-고분자 복합체 입자 제조방법
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제7항에 있어서,상기 폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스는 산소성분이 주쇄 및 측쇄에 불규칙하게 도입된 것인 양자점-고분자 복합체 입자 제조방법
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제7항에 있어서,상기 제1 용매와 상기 제2 용매는 서로 같은 양자점-고분자 복합체 입자 제조방법
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제7항 또는 제9항에 있어서,상기 제1 용매와 상기 제2 용매는 비극성 용매인 양자점-고분자 복합체 입자 제조방법
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제7항에 있어서,상기 제1 용매와 상기 제2 용매는 서로에 관계없이 벤젠(benzene), 자일렌(xylene), 톨루엔(toluene), 씨클로헥산(cyclohexane), 또는 사염화탄소(carbon tetrachloride)인 양자점-고분자 복합체 입자 제조방법
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베이스 기판; 및상기 베이스 기판의 일면 상에 배치된 제1항의 양자점-고분자 복합체 입자들을 포함하는 광학 요소
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제12항에 있어서,상기 베이스 기판은 광투과성 필름이고,상기 광학 요소는 광학 필름인 광학 요소
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제12항에 있어서, 상기 베이스 기판은 고분자 필름 또는 유리 기판인 광학 요소
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제12항에 있어서,상기 베이스 기판은 플레이트형이고, 상기 양자점-고분자 복합체 입자들은 상기 베이스 기판의 상부면 상에 배치된 광학 요소
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제12항에 있어서,상기 베이스 기판은 튜브형이고, 상기 양자점-고분자 복합체 입자들은 상기 베이스 기판의 내부면 상에 배치된 광학 요소
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제12항에 있어서,상기 베이스 기판은 그의 상부에 발광다이오드가 실장된 기판이고,상기 양자점-고분자 복합체 입자들은 봉지 수지 내에 분산되어 상기 베이스 기판 상에 배치된 광학 요소
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제17항에 있어서,상기 봉지 수지는 에폭시 수지, 페놀수지, 폴리에스테르, 실리콘 수지, 아크릴레이트 수지, 우레탄-아크릴레이트 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 광학 요소
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제12항의 광학 요소를 구비하는 광학 장치
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제1항의 양자점-고분자 복합체 입자들이 용매 내에 분산된 분산액
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제20항에 있어서,상기 용매는 톨루엔 또는 에탄올인 분산액
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폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스가 재결정화된 입자; 및상기 입자 내부에 배치된 적어도 1개의 양자점을 포함하고,폴리에틸렌 결정구조를 갖는 복합체
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베이스 기판; 및상기 베이스 기판 상에 배치되고, 폴리올레핀 왁스 또는 폴리올레핀-폴리말레산무수물 공중합체 왁스가 재결정화된 입자 내부에 배치된 적어도 1개의 양자점을 구비하고 폴리에틸렌 결정구조를 갖는 복합체를 포함하는 광학 요소
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