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MFC를 이용한 가스 희석 장치

  • 기술번호 : KST2015194539
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 MFC를 이용한 가스 희석 장치에 관한 것으로서, 다수개의 특정가스 중 어느 하나의 특정가스를 선택하여 희석하기 위해 MFC를 통해 유입량을 조절하여 1차 희석한 후 1차 희석가스에 MFC를 통해 유입량을 조절하여 2차 희석할 때 후단의 MFC 유입량을 초과하는 1차 희석가스를 버림으로써 유연하게 필요유량에 따라 희석비율을 조절하여 고배율의 희석가스를 만들 수 있는 이점이 있다. 샘플가스, 희석가스, 제로가스, MFC, 질량유량조절기, 워터트립, 체크밸브, 레귤레이터, 가스센서
Int. CL G01N 1/38 (2006.01.01) G01N 1/22 (2006.01.01) F16K 31/02 (2006.01.01)
CPC G01N 1/38(2013.01) G01N 1/38(2013.01) G01N 1/38(2013.01)
출원번호/일자 1020070023604 (2007.03.09)
출원인 서울시립대학교 산학협력단, 주식회사 에이피엠엔지니어링
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2008-0082818 (2008.09.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.03.09)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울시립대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동대문구
2 주식회사 에이피엠엔지니어링 대한민국 경기도 부천시 석천로 ***, *

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김신도 대한민국 서울시 강남구
2 채원식 대한민국 인천광역시 부평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아주 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2007-0195025-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0003423-57
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0294527-36
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2008.09.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0498720-71
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.01.05 수리 (Accepted) 4-1-2011-5002044-04
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000287-10
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.04.30 수리 (Accepted) 4-1-2015-5057213-39
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2017-5009116-18
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.16 수리 (Accepted) 4-1-2018-5087121-99
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5191631-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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다수개의 특정가스를 선택적으로 공급할 수 있도록 다수개의 특정가스 유입로에 각각 설치된 다수개의 솔레노이드 밸브와, 상기 다수개의 솔레노이드 밸브에 의해 선택된 특정가스의 유입량을 조절하기 위한 제 1MFC와, 제로가스의 유입량을 조절하기 위한 제 3MFC 및 제 4MFC와, 상기 제 1MFC와 상기 제 3MFC를 통해 유입된 상기 특정가스와 상기 제로가스를 혼합하여 희석된 1차 희석가스의 유입량을 조절하기 위한 제 2MFC와, 상기 제 2MFC의 입력단에 설치되어 상기 제 2MFC의 유입량을 초과하는 상기 1차 희석가스를 버리기 위한 제 1워터트랩과, 상기 제 2MFC와 상기 제 4MFC를 통해 유입된 상기 1차 희석가스와 상기 제로가스를 혼합하여 2차 희석하여 출력하는 출력단과, 입력된 희석비율 및 필요유량에 따라 상기 다수개의 솔레노이드 밸브 및 상기 제 1내지 제 4MFC를 작동을 제어하기 위한 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 다수개의 솔레노이드 밸브의 상기 출력단에 연결되어 상기 제어부의 제어에 따라 상기 제 1MFC로 유입되는 상기 특정가스의 압력을 일정하게 유지하기 제 1레귤레이터와, 상기 제 3MFC와 상기 제 4MFC로 유입되는 상기 제로가스의 유입압력을 상기 제어부의 제어에 따라 일정하게 유지하기 위해 각각 설치된 제 2레귤레이터 및 제 3레귤레이터를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
3 3
제 2항에 있어서, 상기 제 1내지 제 3레귤레이터는 3단계 이상으로 나누어 압력이 조절되는 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
4 4
제 1항에 있어서, 상기 제 1내지 제 4MFC의 출력단에 설치되어 역류를 방지하기 위한 제 1내지 제 4체크밸브를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
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제 4항에 있어서, 상기 제 1내지 제 4체크밸브는 1/3 PSI 압력 이상의 역류를 방지하는 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
6 6
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1내지 제 2MFC의 유량 제어범위는 0∼100SCCM이며, 상기 제 3내지 제 4MFC의 유량 제어범위는 0∼1SLM인 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
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제 1항에 있어서, 상기 제 1내지 제 4솔레노이드 밸브는 상호 배타적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
8 8
제 1항에 있어서, 상기 출력단의 입력측에 설치되어 상기 출력단에 연결되는 측정기기로의 유입량을 초과하는 2차 희석가스를 버리기 위한 제 2워터트랩을 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
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제 1항에 있어서, 상기 출력단의 입력측에 설치되어 상기 2차 희석가스의 역류를 방지하기 위한 제 5체크밸브를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 MFC를 이용한 가스 희석 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.