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1
강유전박막의 하측에는 하부전극이 형성되고 강유전박막의 상측에는 상부전극이 형성되어 이루어지는 캐패시터에 있어서,상기 강유전박막은 강유전무기물질과 금속물질의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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제1항에 있어서,상기 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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3
제1항에 있어서,상기 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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4
강유전박막의 하측에는 하부전극이 형성되고 강유전박막의 상측에는 상부전극이 형성되어 이루어지는 캐패시터에 있어서,상기 강유전박막은 강유전무기물질과 금속물질 및 유기물의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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5
제4항에 있어서,상기 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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6 |
6
제4항에 있어서,상기 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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7
강유전박막의 하측에는 하부전극이 형성되고 강유전박막의 상측에는 상부전극이 형성되어 이루어지는 캐패시터에 있어서,상기 강유전박막은 강유전무기물질과 금속물질 및 강유전유기물질의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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8
제7항에 있어서,상기 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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9
제7항에 있어서,상기 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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10
제7항에 있어서,상기 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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11
강유전박막의 하측에는 하부전극이 형성되고 강유전박막의 상측에는 상부전극이 형성되어 이루어지는 캐패시터에 있어서,상기 강유전박막은 강유전유기물질과 금속물질의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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12
제11항에 있어서,상기 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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13
제11항에 있어서,상기 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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14
강유전박막의 하측에는 하부전극이 형성되고 강유전박막의 상측에는 상부전극이 형성되어 이루어지는 캐패시터에 있어서,상기 강유전박막은 강유전무기물질과 강유전유기물질의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 캐패시터
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15
제14항에 있어서,상기 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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16
제14항에 있어서,상기 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터
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17
기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제1 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전무기물질과 금속물질을 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제2 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제3 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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18
제17항에 있어서,상기 제2 단계는 강유전무기물질의 파우더와 금속물질의 파우더를 혼합한 후 이를 용매에 녹여서 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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19
제17항에 있어서,상기 제2 단계는 강유전무기물질 용액에 금속물질의 파우더를 용해시켜 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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20
제17항에 있어서,상기 제2 단계는 강유전무기물질 용액에 금속물질 용액을 혼합하여 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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21
제17항에 있어서,상기 제2 단계는 강유전무기물질 용액에 금속물질의 파우더를 혼합 및 소결하여 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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22
제17항에 있어서,상기 제2 단계에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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23
제17항에 있어서,상기 제2 단계에서 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제11 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전무기물질과 금속물질 및 유기물질을 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제12 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제13 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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25
제24항에 있어서,상기 제12 단계는 강유전무기물질의 파우더와 금속물질의 파우더 및 유기물빌의 파우더를 혼합한 후 이를 용매에 녹여서 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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26
제24항에 있어서,상기 제12 단계는 강유전무기물질과 유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 용해시켜 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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27
제24항에 있어서,상기 제12 단계는 강유전무기물질과 유기물질의 용액에 금속물질 용액을 혼합하여 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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제24항에 있어서,상기 제12 단계는 강유전무기물질과 유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 혼합 및 소결하여 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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29
제24항에 있어서,상기 제12 단계에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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30
제24항에 있어서,상기 제12 단계에서 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제21 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전무기물질과 금속물질 및 강유전유기물질을 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제22 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제23 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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제31항에 있어서,상기 제22 단계는 강유전무기물질의 파우더와 금속물질의 파우더 및 강유전유기물질의 파우더를 혼합한 후 이를 용매에 녹여서 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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33
제31항에 있어서,상기 제22 단계는 강유전무기물질과 강유전유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 용해시켜 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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34
제31항에 있어서,상기 제22 단계는 강유전무기물질과 강유전유기물질의 용액에 금속물질 용액을 혼합하여 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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35
제31항에 있어서,상기 제22 단계는 강유전무기물질과 강유전유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 혼합 및 소결하여 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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36
제31항에 있어서,상기 제22 단게에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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37
제31항에 있어서,상기 제22 단계에서 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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38
제31항에 있어서,상기 제22 단계에서 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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39
기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제31 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전유기물질과 금속물질을 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제32 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제33 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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40
제39항에 있어서,상기 제32 단계는 강유전유기물질의 파우더와 금속물질의 파우더를 혼합한 후 이를 용매에 녹여서 생성된 혼합용액으로 캐패시터를 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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41
제39항에 있어서,상기 제32 단계는 강유전유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 용해시켜 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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42 |
42
제39항에 있어서,상기 제32 단계는 강유전유기물질의 용액에 금속물질 용액을 혼합하여 생성된 혼합용액으로 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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43
제39항에 있어서,상기 제32 단계는 강유전유기물질의 용액에 금속물질의 파우더를 혼합 및 소결하여 강유전박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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44
제39항에 있어서,상기 제32 단계에서 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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45
제39항에 있어서,상기 제32 단계에서 금속물질은 철(Fe)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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46
기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제41 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전무기물질과 강유전유기물질을 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제42 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제43 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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47
제46항에 있어서,상기 제42 단계에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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제46항 또는 제47항에 있어서,상기 제42단계에서 강유전유기물질은 β상 PVDF인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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49 |
49
기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제51 단계와,상기 하부전극의 상측에 강유전무기물질과 PVDF를 혼합하여 생성된 강유전박막을 형성하는 제52 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제53 단계 및,상기 강유전박막의 양측에 하부전극과 상부전극이 형성된 상태에서 고온 소성 후 급속 냉각하여 β상 PVDF를 형성하는 제54단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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50
제49항에 있어서,상기 제52 단계에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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51
기판의 상측에 하부전극을 형성하는 제61 단계와,강유전무기물질과 PVDF를 혼합하고 고온 소성 후 급속 냉각하여 β상 PVDF 상태로 된 강유전박막을 상기 하부전극의 상측에 형성하는 제62 단계,상기 강유전박막의 상측에 상부전극을 형성하는 제63 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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52
제51항에 있어서,상기 제62단계에서 강유전무기물질은 PZT인 것을 특징으로 하는 캐패시터 제조방법
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