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맥락막 촬영용 광학소자;상기 맥락막 촬영용 광학소자를 이동시키기 위한 지지대와 회전 모터 및 상기 맥락막 촬영용 광학소자의 이동 범위를 제한시키기 위한 스토퍼를 포함하는 메커니즘; 및오씨티 광경로의 특정 위치에 고정적으로 설치된 기준 거울을 포함하되, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 상기 메커니즘에 의해 맥락막 촬영 모드에서 상기 기준 거울의 전단에 삽입되고 망막 촬영 모드에서 상기 기준 거울의 전단에서 추출되는 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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제 1항에 있어서, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 상기 기준 거울에 입사 및 반사되는 광을 지연시키는 광 지연 소자인 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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맥락막 촬영용 광학소자; 및 오씨티 광경로의 특정 위치에 고정적으로 설치된 기준 거울을 포함하되, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 단차로 인해 두께가 얇은 제1 부분과 두께가 두꺼운 제2 부분으로 나누어지며, 상기 제1 부분은, 망막 촬영 모드시, 상기 기준 거울의 전단에 삽입되고, 상기 제2 부분은, 맥락막 촬영 모드시
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제 5항에 있어서, 상기 제1 부분과 제2 부분은, 단차로 인해 두께는 다르되, 굴절율은 동일한 광 지연 소자인 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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맥락막 촬영용 광학소자; 및 오씨티 광경로의 특정 위치에 고정적으로 설치된 기준 거울을 포함하되, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 굴절율이 낮은 제1 부분과 굴절율이 높은 제2 부분으로 나누어지며, 상기 제1 부분은, 망막 촬영 모드시, 상기 기준 거울의 전단에 삽입되고, 상기 제2 부분은, 맥락막 촬영 모드시
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제 7항에 있어서, 상기 제1 부분과 제2 부분은, 굴절율은 다르되, 두께는 동일한 광 지연 소자인 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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오씨티 광경로 상의 특정 위치에 고정적으로 설치되는 기준 거울; 및 상기 기준 거울의 전단에 설치되는 맥락막 촬영용 광학소자를 포함하되, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 맥락막 촬영 모드시, 전기 신호에 의해 두께가 두꺼워지는 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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제 9항에 있어서, 상기 맥락막 촬영용 광학소자는, 이머전 렌즈이고,상기 이머전 렌즈는, 망막 촬영 모드시, 제1 전기 신호에 의해 두께가 얇아지고, 맥락막 촬영 모드시, 제2 전기 신호에 의해 두께가 두꺼워지는 광 지연 소자인 것을 특징으로 하는 맥락막 촬영용 광학소자가 구비된 오씨티 장치
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