1 |
1
제 1 음극 활물질 입자와 제 1 바인더를 포함하고, 제 1 기공률 또는 기공 크기를 갖는 제 1 코팅층;상기 제 1 코팅층 하부에 위치하며, 제 2 음극 활물질 입자와 제 2 바인더를 포함하고,제 2 기공률 또는 기공 크기를 갖는 제 2 코팅층; 및상기 제 2 코팅층 하부에 위치하는 도전성 기판으로 이루어진 집전체;를 포함하며,상기 제 1 음극 활물질 입자의 크기는 상기 제 2 음극 활물질 입자의 크기 보다 크고,상기 제 1 기공률이 상기 제 2 기공률보다 높으며, 상기 제 1 및 제 2 음극 활물질 입자는 흑연(Graphite), 소프트카본(Soft Carbon), 하드카본 (Hard Carbon), 활성 탄소(Activated Carbon), 탄소나노튜브(Carbon Nanotube), 탄소나노섬유(Carbon Nano Fiber), 활성화탄소나노섬유(Activated Carbon Nano Fiber), 기상성장 탄소섬유(Vapor Grown Carbon Fiber), 실리콘(Si), 주석(Sn), 산화실리콘(SiOx), 산화주석(SnOx), 리튬타이타늄옥사이드(Lithium Titanium Oxide), 리튬바나듐옥사이드(Lithium Vanadium Oxide) 그리고 상기 활물질 중 2종 이상을 혼합하여 제조된 복합체 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하고, 상기 제 1 코팅층의 음극 활물질 입자의 기공률(Porosity)은 10 내지 45 % 이며,상기 제 1 바인더와 상기 제 2 바인더 중 어느 하나는 수계 고분자이고, 나머지 하나는 비수계 고분자이며,상기 제 1 코팅층의 제 1 바인더는 전체 제 1 코팅층 총 중량의 7 내지 15 중량 % 이고, 상기 제 2 코팅층의 제 2 바인더는 전체 제 2 코팅층 총 중량의 11 내지 30 중량 % 인 것을 특징으로 하는 전극 구조체
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
청구항 1에 있어서, 상기 수계 고분자는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(Acrylonitrile-Butadiene Rubber: NBR), 스티렌-부타디엔 고무(Styrene-Butadiene Rubber: SBR), 아크릴계수지, 히드록시에틸셀룰로우즈 (Hydroxy Ethyl Cellulose, HEC), 및 카르복시메틸셀룰로우즈(Carboxy Methyl Cellulose, CMC) 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 구조체
|
7 |
7
청구항 1에 있어서, 상기 비수계 고분자는 PVdF(Polyvinylidene fluoride) 호모 폴리머, PVdF 블록 공중합체, 및 PVdF 그라프트 공중합체, 폴리이미드, 폴리아미드 이미드, 폴리아미드, 폴리아크릴로니트릴 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 구조체
|
8 |
8
삭제
|
9 |
9
삭제
|
10 |
10
삭제
|
11 |
11
전극 구조체의 제조 방법에 있어서, (i) 제 1 코팅층의 음극 활물질 입자에 제 1 바인더로 비수계 고분자 또는 수계 고분자 중 적어도 어느 하나를 바인더로 혼합하여 제 1 페이스트를 제조하는 단계;(ii) 상기 제 1 음극 활물질 입자보다 작은 입자 크기를 갖는 제 2 코팅층의 음극 활물질 입자에 제 2 바인더로 비수계 고분자 또는 수계 고분자 중 적어도 어느 하나를 바인더로 혼합하여 제 2 페이스트를 제조하는 단계;(iii) 상기 제 2 페이스트를 집전체 상에 도포하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계;(iv) 제 2 코팅층이 형성된 후, 선택적으로 압연 공정을 통하여 제 2 코팅층의 두께를 조절하는 단계;(v) 상기 제 1 페이스트를 형성된 상기 제 2 코팅층 상에 도포하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 및(vi) 상기 제 2 및 제 1 코팅층이 형성된 집전체를 50 내지 200℃의 온도에서 건조시킨 뒤 전극의 두께를 조절하는 단계;를 포함하여 이루어지고,상기 (i) 및 (ii) 단계에서, 상기 제 1 및 제 2 음극 활물질 입자는 흑연(Graphite), 소프트카본(Soft Carbon), 하드카본 (Hard Carbon), 활성 탄소(Activated Carbon), 탄소나노튜브(Carbon Nanotube), 탄소나노섬유(Carbon Nano Fiber), 활성화탄소나노섬유(Activated Carbon Nano Fiber), 기상성장 탄소섬유(Vapor Grown Carbon Fiber), 실리콘(Si), 주석(Sn), 산화실리콘(SiOx), 산화주석(SnOx), 리튬타이타늄옥사이드(Lithium Titanium Oxide), 리튬바나듐옥사이드(Lithium Vanadium Oxide) 그리고 상기 활물질 중 2종 이상을 혼합하여 제조된 복합체 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하며,상기 (i) 단계에서, 상기 제 1 코팅층의 음극 활물질 입자의 기공률(Porosity)은 10 내지 45 % 이고,상기 (i) 및 (ii) 단계에서, 상기 제 1 바인더와 상기 제 2 바인더 중 어느 하나는 수계성 고분자이고, 나머지 하나는 비수계성 고분자이며,상기 (i) 단계에서, 상기 제 1 코팅층의 제 1 바인더는 전체 제 1 코팅층 총 중량의 7 내지 15 중량 % 이고,상기 (ii) 단계에서, 상기 제 2 코팅층의 제 2 바인더는 전체 제 2 코팅층 총 중량의 11 내지 30 중량 % 인 것을 특징으로 하는 전극 구조체 제조 방법
|
12 |
12
삭제
|
13 |
13
삭제
|
14 |
14
청구항 11에 있어서, 상기 (i) 및 (ii) 단계에서, 상기 수계 고분자는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(Acrylonitrile-Butadiene Rubber: NBR), 스티렌-부타디엔 고무(Styrene-Butadiene Rubber: SBR), 아크릴계수지, 히드록시에틸셀룰로우즈 (Hydroxy Ethyl Cellulose, HEC), 및 카르복시메틸셀룰로우즈(Carboxy Methyl Cellulose, CMC) 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 구조체 제조 방법
|
15 |
15
청구항 11에 있어서, 상기 (i) 및 (ii) 단계에서, 상기 비수계 고분자는 PVdF(Polyvinylidene fluoride) 호모 폴리머, PVdF 블록 공중합체, 및 PVdF 그라프트 공중합체, 폴리이미드, 폴리아미드 이미드, 폴리아미드, 폴리아크릴로니트릴 중에 적어도 어느 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 구조체 제조 방법
|
16 |
16
삭제
|
17 |
17
삭제
|