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이차전지용 복합 분리막 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015196075
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다공성기재층, 친수성 내열고분자층 및 세라믹층을 포함하는 이차전지용 복합 분리막에 관한 발명으로, 더욱 상세하게는 다공성기재층, 다공성기재층, 다공성기재층 표면에 형성된 친수성 내열고분자층 및 친수성 내열고분자층 표면에 형성된 세라믹층을 포함하는 이차전지용 복합 분리막으로 다공성기재층 표면에 내열고분자층을 형성시킴으로써, 내열성을 향상시키고 세라믹층과의 결착력을 증가시키는 이차전지용 복합 분리막 및 이를 포함하는 리튬이차전지에 관한 것이다.
Int. CL H01M 2/16 (2006.01)
CPC H01M 2/16(2013.01) H01M 2/16(2013.01) H01M 2/16(2013.01) H01M 2/16(2013.01) H01M 2/16(2013.01)
출원번호/일자 1020130156292 (2013.12.16)
출원인 한밭대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1396270-0000 (2014.05.12)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140519) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.16)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한밭대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이용민 대한민국 대전광역시 유성구
2 유명현 대한민국 대전광역시 유성구
3 이태주 대한민국 충청남도 공주
4 이윤주 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한밭대학교 산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-1148349-19
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-1175521-00
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.02.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.02.20 수리 (Accepted) 9-1-2014-0014968-72
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0140248-88
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0380197-63
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-0380199-54
8 등록결정서
Decision to grant
2014.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0313765-84
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2014-0085888-54
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.04.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5058417-94
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5065033-29
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.12 수리 (Accepted) 4-1-2019-5072792-98
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다공성기재층, 다공성기재층의 일면 또는 양면에 하기 화학식 1의 화합물이 중합되어 형성된 친수성 내열고분자층 및 친수성 내열고분자층 표면에 형성된 세라믹층을 포함하는 이차전지용 복합 분리막
2 2
제 1항에 있어서,상기 다공성기재층은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아이소뷰틸렌, 폴리비닐클로라이드, 폴리비닐리덴클로라이드, 폴리비닐리덴플루오라이드, 폴리메틸메타크릴레이트 나일론, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리비닐알콜, 폴리(에틸렌-co-비닐알콜), 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴리에스터, 글래스파이버 및 셀룰로오스로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나, 둘 이상의 혼합물 또는 공중합체로 이루어진 이차전지용 복합 분리막
3 3
제 1항에 있어서, 상기 R1 내지 R5는 적어도 어느 하나가 인 이차전지용 복합 분리막
4 4
제 1항에 있어서,상기 친수성 내열고분자층은 도파민 또는 노르에피네프린이 중합되어 형성된 것인 이차전이용 복합 분리막
5 5
제 1항에 있어서,상기 세라믹층은 TiO2, SiO2, SnO2, CeO2, ZrO2, CaCO3, BaTiO3, Al2O3, Al(OH)3 및 Mg(OH)2으로 부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어진 것인 이차전지용 복합 분리막
6 6
제 1항에 있어서,상기 다공성기재층의 두께는 5 ~ 100 ㎛, 친수성 내열고분자층의 두께는 5 ~ 500 ㎚ 및 세라믹층의 두께는 10 ~ 2,000 ㎚인 이차전지용 복합 분리막
7 7
제 1항 내지 6항에서 선택되는 어느 한 항에 따른 이차전지용 복합 분리막을 포함하는 리튬이차전지
8 8
a) 다공성기재층의 일면 또는 양면에 하기 화학식 1의 화합물을 pH 7 ~ 11의 용액에 용해시킨 친수성 내열고분자 용액을 코팅하고 건조하여, 친수성 내열고분자층을 제조하는 단계,b) 상기 친수성 내열고분자층의 표면에 세라믹을 진공 증착하여 상기 친수성 내열고분자층 표면에 세라믹층을 제조하는 단계,를 포함하는 이차전지용 복합 분리막의 제조방법
9 9
제 8항에 있어서,상기 R1 내지 R5는 적어도 어느 하나가 인 이차전지용 복합 분리막의 제조방법
10 10
제 8항에 있어서,상기 친수성 내열고분자 용액은 도파민 또는 노르에피네프린을 용해시킨 것인 이차전지용 복합 분리막의 제조방법
11 11
제 8항에 있어서,상기 a)단계의 코팅방법은 침지코팅법, 가압코팅법, 스핀코팅법, 스프레이법 또는 롤러코팅 으로부터 선택되는 방법으로 코팅되는 것인 이차전지용 복합 분리막의 제조방법
12 12
제 8항에 있어서,상기 a)단계에서 친수성 내열고분자층 표면에 플라즈마 하는 단계를 더 포함하는 이차전지용 복합 분리막의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.