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폴리에틸렌테레프탈레이트 칩을 이용한 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015196124
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 PET 칩의 글리콜리시스(glycolysis)에 의한 해중합 반응에 의해 폴리우레탄의 원료인 폴리에스터폴리올을 제조하는 방법에 있어서, 펜타에리쓰리톨(pentaerythritol) 또는 소르비톨(sorbitol)을 첨가함으로써 제조된 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올 및 이를 이용한 폴리우레탄에 관한 것이다. 보다 상세하게는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올을 이용하여 폴리우레탄 제조 시 압축강도, 굴곡강도 및 열전도도 등의 물성이 향상된 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL C08G 18/48 (2006.01.01) C08G 18/08 (2006.01.01) C08L 75/04 (2006.01.01) C07C 51/09 (2006.01.01) C07C 63/26 (2006.01.01) C08J 11/24 (2006.01.01)
CPC C08G 18/48(2013.01) C08G 18/48(2013.01) C08G 18/48(2013.01) C08G 18/48(2013.01) C08G 18/48(2013.01) C08G 18/48(2013.01)
출원번호/일자 1020100019330 (2010.03.04)
출원인 한밭대학교 산학협력단, 주식회사 벤플러스
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0100382 (2011.09.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.04)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한밭대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 벤플러스 대한민국 충청남도 금산군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김민규 대한민국 충청남도 논산시
2 이봉호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2010-0138724-11
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.10.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0592894-72
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.12.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0987393-16
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0987389-33
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0285194-42
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2014-0085888-54
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.04.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5058417-94
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5065033-29
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.12 수리 (Accepted) 4-1-2019-5072792-98
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.18 수리 (Accepted) 4-1-2020-0017455-78
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5153492-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩과 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 100 중량부에 대하여 글리콜 30 ~ 120 중량부, 촉매 0
2 2
제 1항에 있어서, 상기 글리콜은 에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 1,2-프로판 다이올, 1,3-프로판 다이올, 다이프로필렌 글리콜, 1
3 3
제 2항에 있어서,상기 다염기산은 무수프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 5-디메틸소디움슬포이소프탈레이트(DMSSIP), 아디핀산, 아제라인산, 세바신산, 무수테트라하이드로프탈산, 무수마레인산, 푸말산, 이타곤산, 트리메리트산, 무수트리메리트산, 무수피로메리트산, 숙신산, 사이클헥산디카복실산, 나프탈렌디카복실산, 벤조산, 다이머산에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
4 4
제 3항에 있어서,상기 촉매는 염화아연, 염화철, 염화알루미늄, 염화수은, 아세트산, 포름산, 프로피온산, 부틸산, 벤조산과 같은 카복실산, 마그네슘 아세트산, 납 아세트산, 칼슘 아세트산, 칼륨 아세트산, 아연 아세트산, 나트륨 아세트산, 인 아세트산, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 수산화칼슘, 수산화칼륨, 수산화나트륨에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 a)단계의 반응은 100 ~ 250 ℃의 온도로 승온하면서 이루어지는 것을 특징으로 하는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 b)단계의 반응은 160 ~ 230 ℃의 온도에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 폴리에스터폴리올의 수산가는 300 내지 600 mgKOH/g인 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
8 8
제 1항에 있어서,상기 a)단계에서 폴리에틸렌테레프탈레이트 칩 100 중량부에 대하여 폴리아민계 화합물 0
9 9
제 8항에 있어서,상기 폴리아민계 화합물은 에틸렌다이아민 또는 트리에틸렌다이아민인 것을 특징으로 하는 작용기가 증가된 폴리에스터폴리올의 제조방법
10 10
제 1항 내지 제 9항에서 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 폴리에스터폴리올을 원료로 사용한 폴리우레탄
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한밭대학교 산학협력중심대학사업단 산학협력중심대학기술개발과제 리사이클폴리올을 이용한 PIR foam 제조 및 난연 PIR보드 개발