| 1 |
1
제 1 고분자 필름기재; 및상기 제 1 고분자 필름기재에 형성되며, 콜로이드 입자들을 포함하는 광결정층; 및상기 광결정층에 적층 형성되는 제 2 고분자 필름기재를 포함하는 OLED용 시인성 향상 필름
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 양자점인 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 Mg, Cd, Ti, Li, Cu, Al, Ni, Y, Ag, Mn, V, Fe, La, Ta, Nb, Ga, In, S, Se, P, As, Co, Cr, B, N, Sb, H 및 이들 중 2 이상의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 양자점인 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 제 1 고분자 필름기재 및 제 2 고분자 필름기재 중 적어도 어느 하나는 열가소성 수지 또는 UV경화성 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서,상기 제 1 고분자 필름기재 및 제 2 고분자 필름기재 중 적어도 어느 하나는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌프탈레이트계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트계 수지, 아세틸셀룰로오스계 수지, 상기 수지들 중 2 이상을 포함하는 공중합체, 및 이들의 유도체를 포함한 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름
|
| 6 |
6
(a) 제 1 고분자 필름기재를 준비하는 단계;(b) 상기 제 1 고분자 필름기재에 콜로이드 입자들을 포함하는 광결정층을 형성하는 단계; 및(c) 상기 광결정층의 상부에 제 2 고분자 필름기재를 적층형성하는 단계를 포함하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
| 7 |
7
제 6항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 양자점인 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
| 8 |
8
제 6항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 Mg, Cd, Ti, Li, Cu, Al, Ni, Y, Ag, Mn, V, Fe, La, Ta, Nb, Ga, In, S, Se, P, As, Co, Cr, B, N, Sb, H 및 이들 중 2 이상의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 양자점인 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
| 9 |
9
제 6항에 있어서,상기 (b)단계는 상기 콜로이드 입자들을 포함하는 용액을 상기 제 1 고분자 기재필름에 도포하여 박막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
| 10 |
10
제 9항에 있어서,상기 박막은 상기 제 1 고분자 기재필름에 스핀 코팅법으로 도포하여 형성되는 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
| 11 |
11
제 9항에 있어서,상기 (c)단계 이후에,(d) 상기 OLED용 시인성 향상 필름을 절단하여 복수개의 절편으로 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OLED용 시인성 향상 필름의 제조방법
|
