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투명기판의 일면 또는 양면에 유기박막 코팅용 조성물을 초음파 분사하여 코팅층을 형성하는 단계 및 상기 분사된 코팅층을 건조하는 단계를 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계 및 건조하는 단계는 연속적으로 1회 이상 반복되는 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 유기박막 코팅용 조성물은 0
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제1항에 있어서,상기 유기박막 코팅용 조성물은 9 내지 14 watt 초음파를 이용하여 액적화되는 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 유기박막 코팅용 조성물은 유기용매 및 전도성 고분자 화합물을 포함하고, 상기 전도성 고분자 화합물 대 유기용매의 조성비는 1:1 내지 1:200(w/w)인 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 전도성 고분자 화합물은 폴리파라페닐린비닐렌(PPV), 폴리실록산카르바졸, 폴리아닐린(PANI), 폴리에틸렌옥사이드, 폴리인돌, 폴리카르바졸, 폴리피리디아진, 폴리이소티아나프탈렌, 폴리페닐렌설파이드, 폴리비닐피리딘, 폴리티오펜, 폴리플루오렌, 폴리스티렌술폰산, 폴리피리딘, 폴리실록산카르바졸, 폴리벤젠, 폴리벤조이미다졸, 폴리페닐아세틸렌, 폴리아세틸렌, 플러렌, 폴리아크릴로니트릴계 고분자 및 이들의 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 전도성 고분자 화합물은 P3HT(poly(3-hexylthiophene), PCBM(phenyl-C61-butyric acid methyl ester), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene), MEH-PPV(poly[2-methoxy-5-(2''-ethylhexyloxy)-p-phenylene vinylene]), MDMO-PPV(poly[2-methoxy-5-(3,7-dimethyloctyloxy)-1,4-phenylenevinylene]), PTCBI(3,4,9,10 perylenetetracarboxylic bisbenzimidazole) 및 PSS(polystyrenesulfonate)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 건조하는 단계는 25 내지 200 ℃에서 실시되는 것을 특징으로 하는 광전소자용 유기박막의 제조방법
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제1항의 광전소자용 유기박막의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 유기박막
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제8항의 유기박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 광전소자
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