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기판;상기 기판 위의 일정 영역에 증착하여 적층되고 엑스선을 반투과하는 제 1 물질층과 상기 제 1 물질층 상부 또는 하부에 적층되고 엑스선을 투과하는 제 2 물질층이 교번적으로 증착되어 적층된 적어도 하나의 제 1 박막 적층 구조체; 및상기 제 1 박막 적층 구조체로부터 소정 거리 이격된 영역에 적층되고 엑스선을 흡수하는 제 3 물질층과 상기 제 3 물질층의 상부 또는 하부에 적층되고 엑스선을 투과하는 적어도 하나의 제 4 물질층이 교번적으로 적층된 적어도 하나의 제 2 박막 적층 구조체를 포함하며, 상기 제 1 박막 적층 구조체와 상기 제 2 박막 적층 구조체는 상기 기판 위에 두 구조의 영역의 중심을 연결한 선에 평행하게 일정 간격으로 반복되고, 일정 간격으로 반복되는 상기 제 2 박막 적층 구조체는 반복될 때마다 일정 높이의 기반층 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 물질층, 제 2 물질층, 제 3 물질층, 및 제 4 물질층은 두께 100nm 이하의 박막인 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 물질층과 상기 제 4 물질층은 동일한 물질인 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 박막 적층 구조체와 상기 제 2 박막 적층 구조체 사이의 직선 거리는 탈보(talbot) 거리인 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체
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제1항 및 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 1 물질층, 상기 제 2 물질층, 상기 제 3 물질층 및 상기 제 4 물질층은 금속을 포함하는 엑스선 격자 구조체
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기판;상기 기판 위의 일정 영역에 증착하여 적층되고 엑스선을 반투과하는 제 1 물질층과 상기 제 1 물질층 상부 또는 하부에 적층되고 엑스선을 투과하는 제 2 물질층이 교번적으로 증착되어 형성되는 복수의 빔 분할 격자; 및상기 복수의 빔 분할 격자 각각으로부터 탈보 거리만큼 엑스선 진행 방향으로 이격되어 위치하고, 엑스선을 흡수하는 제 3 물질층과 상기 제 3 물질층의 상부 또는 하부에 적층되고 엑스선을 투과하는 적어도 하나의 제 4 물질층이 교번적으로 적층되어 형성되는 복수의 흡수 격자;를 포함하고,상기 복수의 흡수격자는 반복될 때마다 일정 높이의 기반층 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체
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제 8 항에 있어서,상기 기반층은 n-1/스캔수 x 0
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제 8 항의 엑스선 격자 구조체의 제조 방법에 있어서,a) 상기 기판 상면에 마스크를 배치하고 증착하여 상기 기반층을 형성하는 단계;b) 상기 기판 상에 제 1 물질과 제 2 물질을 교번적으로 증착하는 단계;c) 상기 기판 상에 제 3 물질과 제 4 물질을 교번적으로 증착하는 단계; 및d) 상기 b 단계 및 상기 c 단계에 형성된 박막층을 에칭하여 상기 빔분할격자 및 상기 흡수격자를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 엑스선 격자 구조체의 제조방법
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