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2-나프톨을 루비듐 베이스(Rubidium base)와 반응시켜 루비듐 2-나프톡사이드를 생성하는 단계;상기 루비듐 2-나프톡사이드와 이산화탄소를 루비듐계 촉매를 사용하여 반응시키는 단계; 및상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소의 반응 생성물에 물 또는 산을 첨가하는 단계를 포함하는 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐계 촉매는 루비듐 산화물(Rb2O) 또는 루비듐 베이스인 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 2에 있어서,상기 루비듐계 촉매인 루비듐 베이스는 루비듐 하이드록사이드 또는 루비듐 카보네이트인 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐계 촉매는 상기 촉매 내의 루비듐이 상기 루비듐 2-나프톡사이드 1몰에 대해 0
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청구항 1에 있어서,상기 2-나프톨을 상기 루비듐 베이스(Rubidium base)와 반응시키는 것은 물을 용매로 하여 진행되는 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소의 반응단계에서 이산화탄소 압력은 2 내지 20 bar인 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소의 반응단계에서 반응온도는 250 내지 320℃인 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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8
청구항 1에 있어서,상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소의 반응단계에서 반응시간은 0
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소의 반응은 헥사데칸을 용매로 하여 진행되는 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 루비듐 2-나프톡사이드와 상기 이산화탄소를 반응시키기 전에, 상기 루비듐 2-나프톡사이드를 건조시키는 단계를 더 포함하는 2-하이드록시-6-나프토산 제조방법
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물 내에서 2-나프톨을 루비듐 하이드록사이드와 반응시켜 루비듐 2-나프톡사이드 수용액을 생성하는 단계;상기 루비듐 2-나프톡사이드 수용액으로부터 물을 제거하여 건조된 루비듐 2-나프톡사이드를 얻는 단계;상기 건조된 루비듐 2-나프톡사이드와 이산화탄소를 루비듐계 촉매를 사용하여 반응시키되, 4 내지 16 bar의 이산화탄소 압력, 270 내지 300℃의 반응온도, 및 0
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