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제 2 항에 있어서, 상기 POSS의 수산기(-OH)는 1개 내지 16개인 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA
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제 2 항에 있어서, 상기 PLA는 L,L-락타이드, D,D-락타이드, D,L-락타이드 및 그의 조합으로 구성된 그룹에서 선택된 단량체로 구성된 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA
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제 6 항에 있어서, 상기 PLA는 L,L-락타이드, D,D-락타이드, D,L-락타이드 및 그의 조합으로 구성된 그룹에서 선택된 한 가지 이상의 단량체를 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 유기금속촉매로서 염화주석(stannic chloride), 산화주석(stannous oxide), 옥토산 주석(stannous octoate), 염화주석이수화물(stannous chloride dihydrate), 테트라페닐주석(tetraphenyl tin) 중에서 선택되는 주석계통 촉매; 아연 가루, 염화 아연(zinc chloride), 산화아연(zinc oxide), 옥토산 아연(zinc octate), 디에틸아연(diethyl zinc) 중에서 선택되는 아연계통 촉매를 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 개환중합은 반응온도를 120 내지 240 ℃로 하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 개환중합은 반응압력을 0
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제 6 항에 있어서, 상기 개환중합은 유기용매의 존재 하에서 반응온도를 20 내지 110 ℃로 하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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12
제 11 항에 있어서, 상기 유기용매로서 클로로포름, 톨루엔, 테트라하이드로퓨란 또는 메틸렌클로라이드를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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13
제 6 항에 있어서, 상기 혼합은 반응온도를 160 내지 240 ℃로 하여 용융혼합하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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14
제 6 항에 있어서, 상기 혼합은 반응온도를 20 내지 70 ℃로 하여 용액혼합하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 용액혼합은 용매로서 클로로포름, 톨루엔, 테트라하이드로 퓨란, 메틸렌클로라이드를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 PLA/POSS-PLA를 제조하는 방법
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제 2 항의 고분자 PLA/POSS-PLA로부터 제조된 물품
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제 16 항에 있어서, 상기 물품은 필름, 섬유, 플라스틱 중 어느 하나인 물품
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