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반응영역이 정의된 챔버와;
상기 반응영역 내로 기판을 이송 및 고정하는 기판 장착부와;
상기 기판과 수직하게 위치하는 한쌍의 제 1 및 제 2 타겟으로 각각 이루어지는 제 1 및 2 스퍼터링 타겟과;
상기 제 1 스퍼터링 타겟의 상기 제 1 및 제 2 타겟의 각 배면에 위치하는 제 1 및 제 2 자계 발생수단과;
상기 제 2 스퍼터링 타겟의 상기 제 1 및 제 2 타겟의 각 배면에 위치하는 제 2 및 제 3 자계 발생수단
을 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 타겟은 상기 제 2 자계 발생수단을 공용(共用)으로 사용하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 제 1 내지 제 3 자계 발생수단은 영구자석으로, 상기 제 1 및 제 2 자계 발생수단은 서로 극성이 다르게 배치되며, 상기 제 2 및 제 3 자계 발생수단은 서로 극성이 다르게 배치되는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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제 2 항에 있어서,
상기 제 2 자계 발생수단은 상기 제 1 스퍼터링 타겟과 상기 제 2 스퍼터링 타겟으로 각각 서로 다른 극성이 향하도록을 하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 타겟에는 각각 스퍼터링 가스를 공급하는 스퍼터링 가스공급수단을 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 타겟에는 각각 상기 제 1 내지 제 3 자계 발생수단을 냉각시키기 위한 냉각수단을 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 기판 장착부는 인력 또는 척력을 통해 상기 기판을 비접촉 방식으로 고정한 후, 인라인(in-line) 방식을 통해 이송하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟 방식 스퍼터링 장치
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