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냉각 효율이 개선된 플라즈마 토치

  • 기술번호 : KST2015198260
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 토치에 관한 것으로 냉매를 외부로부터 주입받는 내부 공간을 가지고 제1부분과 제2부분으로 구성되는 원통형의 튜브, 원통형의 튜브의 제1부분의 외부를 감싸는 헤드, 및 원통형의 튜브의 제2부분의 외부를 감싸고, 외부로부터 전원을 인가 받는 전극을 포함하며, 제1부분은 외부로부터 냉매를 주입받는 쪽에 위치하고, 제2부분은 제1부분과 연속적으로 연결되며, 헤드와 제1부분의 외부는 냉매가 이동될 수 있는 경로를 제공하는 제1경로를 한정하고, 전극과 제2부분의 외부는 상기 냉매가 이동될 수 있는 경로를 제공하는 제2경로를 한정하며, 냉매는 튜브의 내부 공간을 따라서 이동되고, 제2경로와 제1경로를 통해서 순차적으로 이동된다. 이에 따라 냉각 효율이 개선되어 전극을 오래 사용할 수 있고 고전압을 인가할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H05B 7/18 (2006.01) B23K 10/00 (2006.01) H05H 1/28 (2006.01)
CPC H05H 1/28(2013.01) H05H 1/28(2013.01) H05H 1/28(2013.01) H05H 1/28(2013.01) H05H 1/28(2013.01)
출원번호/일자 1020100037833 (2010.04.23)
출원인 (주)엔플라, 금오공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1152409-0000 (2012.05.25)
공개번호/일자 10-2011-0118314 (2011.10.31) 문서열기
공고번호/일자 (20120703) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.04.23)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)엔플라 대한민국 경상북도 구미시
2 금오공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창수 대한민국 대구광역시 달서구
2 김동주 대한민국 서울특별시 마포구
3 김경진 대한민국 경상북도 구미시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김동진 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** (역삼동, 신명빌딩 *층)(청우특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)엔플라 경상북도 구미시
2 금오공과대학교 산학협력단 경상북도 구미시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0262515-17
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2010-0322715-27
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2010.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0323247-39
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.12.20 수리 (Accepted) 4-1-2010-5239857-52
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.01.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.02.21 수리 (Accepted) 9-1-2011-0016666-21
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0477354-19
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0834071-87
9 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2011.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0834001-02
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0935761-63
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-1034190-93
12 [명세서등 보정] 보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.01.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0061664-66
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견] 의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0061665-12
14 등록결정서
Decision to grant		 2012.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0291515-02
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5177397-22
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2014-5047711-41
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2015-5157879-38
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5079599-14
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 토치에 있어서,냉매를 외부로부터 주입받는 내부 공간을 가진 원통형의 튜브; 상기 원통형의 튜브의 외부의 일부인 제1부분을 감싸는 헤드; 및상기 원통형의 튜브의 외부의 다른 일부인 제2부분을 감싸고, 외부로부터 전원을 인가 받는 전극;을 포함하며,상기 제1부분은 상기 제2부분 보다 상기 냉매를 주입받는 쪽에 더 가깝게 위치되어 있고, 상기 제2부분은 상기 제1부분 보다 상기 전극에 더 가깝게 위치되어 있으며,상기 헤드와 상기 제1부분은 상기 냉매가 이동될 수 있는 경로를 제공하는 제1경로를 한정하고,상기 전극과 상기 제2부분은 상기 냉매가 이동될 수 있는 경로를 제공하는 제2경로를 한정하며,상기 냉매는 상기 튜브의 내부 공간으로 주입되어 상기 헤드 쪽으로 이동하고, 상기 전극과 상기 제2부분이 한정하는 제2 경로를 통해서 이동하고, 다시 상기 헤드와 상기 제1부분이 한정하는 제1 경로를 통해서 이동되며,상기 튜브의 내부 또는 외부에는 플라즈마 전원으로 인하여 발생되는 열을 냉각시키기 위해서 요철부 또는 나선형부가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
2 2
제1항에 있어서,상기 전극의 외부를 감싸는 노즐; 상기 헤드의 외부를 감싸는 하우징; 및상기 전극의 외부를 감싸는 프라이머리 선회식 링;을 더 포함하며,상기 헤드는 플라즈마를 발생시키기 위한 프라이머리 가스를 주입받는 프라이머리 가스 주입구와 이 주입구를 통해서 주입받은 상기 프라이머리 가스가 이동될 수 있는 제3경로를 제공하며,상기 하우징은 상기 제3경로와 연통하고, 상기 프라이머리 가스가 이동될 수 있는 제4경로를 제공하고,상기 프라이머리 선회식 링은 상기 전극과 함께 제4경로와 연통하고 상기 프라이머리 가스가 이동될 수 있는 제5경로를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
3 3
제2항에 있어서 상기 전극과 상기 노즐은 상기 제5경로와 연통되어 상기 프라이머리 가스가 위치될 수 있는 공간을 제공하며,상기 공간에 존재하는 프라이머리 가스는 플라즈마의 형태로 상기 노즐을 통해서 외부로 방출되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
4 4
제2항에 있어서,상기 프라이머리 선회식 링과 상기 전극의 적어도 일부를 부에서 감싸는 바디;를 더 포함하며,상기 헤드는 상기 프라이머리 가스에 의해 생성된 플라즈마 가스를 안정화시키기 위한 세컨더리 플라즈마 가스를 주입받기 위한 세컨더리 가스 주입구와, 이 세컨더리 가스 주입구를 통해서 주입받은 세컨더리 가스가 이동될 수 있는 제6경로를 제공하며,상기 하우징은 상기 제6경로와 연통하고 상기 세컨더리 가스가 이동될 수 있는 제7경로를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
5 5
제4항에 있어서,상기 바디와 상기 전극을 외부에서 둘러싸는 내부 캡; 및상기 하우징과, 상기 내부 캡과, 상기 전극을 외부에서 둘러싸는 외부 캡;을 더 포함하며,상기 내부 캡과 상기 외부 캡은 상기 제7경로와 연통하고, 상기 세컨더리 가스가 이동될 수 있는 제8경로를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
6 6
제5항에 있어서,상기 전극과 상기 외부 캡은 상기 제8경로와 연통하고, 상기 세컨더리 가스가 이동될 수 있는 제9경로를 제공하며,상기 제9경로는 상기 세컨더리 가스와 상기 노즐이 토출하는 플라즈마 가스가 만날 수 있도록 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
7 7
제5항에 있어서,상기 내부 캡과 상기 외부 캡이 제공하는 제8경로에는 세컨더리 가스가 와류 형태로 선회되도록 쉴드 선회식 링이 위치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
8 8
제5항에 있어서,상기 하우징은 상기 제1경로와 연통되어 상기 냉매가 이동할 수 있는 경로를 제공하며, 상기 바디는 상기 하우징이 제공하는 경로와 연통되어 상기 냉매가 이동할 수 있는 경로를 제공하며,상기 전극은 상기 바디가 제공하는 경로와 연통되어 상기 냉매가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.