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스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015198333
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스퍼터링 장치에 관련한 것으로서, 구체적으로는, 타겟표면의 넓은 범위에 자장의 꼭지점(합치점)을 발생시키는 것이 가능한 자기장 확산 수단을 가지는 스퍼터링 장치를 제공한다. 이에 의해, 플라즈마를 타겟표면의 넓은 범위에 발생시키는 것이 가능한 자장 분포도를 실현하여, 자기장의 꼭지점 부위만 급속히 소모되는 타겟 재료의 이용효율을 향상시킬 수 있도록 자기장 꼭지점을 확산시켜 보다 많은 꼭지점을 제공하는 것을 가능하게 하기 위한 수단으로서, 진공챔버와, 상기 진공챔버 내에 배치된 타겟과, 상기 타겟의 이면 측에 설치되고 자석 유니트를 포함한 자기회로와, 상기 타겟의 표면 측에 배치되어 기판을 유지하는 기판 유지구를 구비한 스퍼터링 장치에 있어서, 상기 자석 유니트는 상기 타겟의 이면의 외주부에, 자석이나 코일이 타원형으로 둘러싸는 형태로 설치되고, 상기 자기 유니트로 이루어진 자기 회로와 상기 타겟 사이에는 상기 타원형의 일측 반원형부와 이 곡선부의 양측에 연결된 직선형부를 커버하는 형상의 판상의 자기장 확산변형 수단이 적층 배열된 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/203 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01)
CPC C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01)
출원번호/일자 1020090078784 (2009.08.25)
출원인 금오공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1094995-0000 (2011.12.09)
공개번호/일자 10-2011-0021158 (2011.03.04) 문서열기
공고번호/일자 (20111219) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.14)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 금오공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김기범 대한민국 경상북도 구미시
2 황윤식 대한민국 경상북도 구미시
3 김영식 대한민국 대구광역시 달서구
4 박장식 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김순웅 대한민국 서울시 구로구 디지털로**길 **, ***호 (구로동,에이스테크노타워*차)(정진국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 금오공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 구미시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2009-0520747-53
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.12.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0770865-84
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0770944-93
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2009-5248845-02
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0224575-36
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0481609-60
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0575678-26
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0575684-01
9 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0705319-69
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5177397-22
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2014-5047711-41
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2015-5157879-38
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5079599-14
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공챔버와, 상기 진공챔버 내에 배치된 타겟과, 상기 타겟의 이면 측에 설치되고 자석 유니트를 포함한 자기회로와, 상기 타겟의 표면 측에 배치되어 기판을 유지하는 기판 유지구를 구비한 스퍼터링 장치에 있어서, 자기 회로와 상기 타겟 사이에는 타원형의 일측 반원형부와 이 곡선부의 양측에 연결된 직선형부를 커버하는 형상의 판상의 자기장 확산변형 수단이 적층 배열된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 자기장 확산변형 수단은 상기 타겟 하부와 냉각수가 흐르는 백킹 플레이트의 사이에 개재된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자기장 확산변형 수단은, 투자율이 2000인 1~10 mm 철판(steel plate)인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.