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플라즈마 반응기에 있어서,
유전체와;
플라즈마 방전을 발생시키기 위해 마련되며, 상기 유전체 내부에 수용되는 제1전극부 및 상기 유전체에 대해 일정 간격을 두고 상기 유전체를 둘러싸는 통 형상의 제2전극부를 포함하고,
상기 제2전극부에는 내벽면의 둘레를 따라 나사산이 형성되어, 배기가스를 상기 제2전극부의 길이 방향을 따라 헬릭스(helix) 유동으로 안내하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,
상기 나사산은 상기 제2전극부의 내벽면 둘레를 따라 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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3
제2항에 있어서,
상기 나사산은 상기 제2전극부의 내벽면 둘레를 따라 상기 제2전극부의 길이에 대해 10% 내지 100%로 길이로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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4
제1항에 있어서,
상기 나사산의 나사각은 38도 내지 90도 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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5
제1항에 있어서,
상기 나사산의 높이는 상기 제2전극부의 내벽면과 상기 유전체 외표면의 간극에 대해 5% 내지 50% 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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6
제5항에 있어서,
상기 나사산의 피치(pitch)는 상기 나사산의 높이를 기준으로 10% 내지 500%인 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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7
제1항에 있어서,
상기 유전체는 알루미나(Al2O3)와 티탸늄 다이옥사이드(TiO2) 중 어느 하나를 포함하는 세라믹으로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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8
제7항에 있어서,
상기 유전체에는 산화촉매 또는 환원촉매가 코팅된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기
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9
배기가스 저감장치에 있어서,
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 플라즈마 반응기와;
상기 플라즈마 반응기를 수용하며, 배기가스가 유입 및 유출되는 유입구 및 유출구가 형성된 통 형상의 하우징과;
상기 플라즈마 반응기에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 저감장치
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10
제9항에 있어서,
상기 전원공급부로부터 공급된 전원을 고전압으로 증폭하여 상기 플라즈마 반응기에 공급하는 전원증폭부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 저감장치
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