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빔 플럭스 및 수송효율이 향상된 중성입자빔 생성장치 및 생성 방법

  • 기술번호 : KST2015199264
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자회전공명(ECR: Electron Cyclotron Resonance)에 의한 플라즈마 발생 방식을 채용하여 기판 표면을 중성입자빔으로 증착 또는 식각 처리할 수 있는 중성입자빔 생성장치에 관한 것으로, 플라즈마의 이온을 가속 충돌시켜 중성입자빔을 생성하는 중성화반사판 위쪽에 자석구조물을 설치하고, 상기 자석구조물에 의한 자기장과 공명을 일으킬 수 있는 전기장을 제공하는 마이크로웨이브를 조사하여 플라즈마를 방전시키고 플라즈마층의 온도를 적절히 가열하며, 레이스트랙 구조의 자기력선 분포에 의해 고밀도의 얇은 플라즈마층을 형성하며, 대면적의 균일한 중성입자빔의 효과를 얻어 증착막의 두께가 불균일해지는 문제점을 해결하기 위해 상기 자석구조물을 반사판 위쪽에서 적당한 운동(예를들어, 왕복운동)을 시키며, 상기 자석구조물을 진공 챔버 내에 배치하여 자력선의 세기가 감쇄되는 것을 최소화하였다. 본 발명에 따르면, 높은 플럭스의 중성입자빔을 낮은 운전압력에서 생성할 수 있으므로 빔 수송 효율이 크게 향상되어, 기판에 도달하는 중성입자빔 플럭스가 증가되고 , 증착막의 두께를 균일하게 할 수 있다. 중성입자빔, 플라즈마, 마그네트론, 빔수송 효율, 빔 플럭스
Int. CL H05H 3/00 (2006.01) H05H 3/06 (2006.01)
CPC H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01) H05H 3/06(2013.01)
출원번호/일자 1020090051750 (2009.06.11)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1092906-0000 (2011.12.06)
공개번호/일자 10-2010-0133056 (2010.12.21) 문서열기
공고번호/일자 (20111212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.11)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유석재 대한민국 대전시 유성구
2 김성봉 대한민국 대전시 유성구
3 김대철 대한민국 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김성호 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2009-0352612-57
2 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-0792276-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.08.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0053153-99
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0516042-05
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0031440-64
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.01.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0031443-01
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0325098-50
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.08.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0628569-80
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2011-0628570-26
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
12 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0709334-37
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마를 생성하는 플라즈마 방전 공간을 제공하는 플라즈마 챔버; 플라즈마 이온을 충돌에 의해 중성입자로 변환시키기 위해 상기 플라즈마 챔버 내부에 설치되는 중성화 반사판; 중성 입자 외의 플라즈마 이온 및 전자를 상기 플라즈마 방전 공간에 제한하도록 상기 플라즈마 방전 공간의 하단에 설치되는 리미터; 상기 중성화 반사판의 상단에 설치되어 플라즈마 방전 공간 내에 레이스트랙(racetrack) 구조의 자기장을 형성하기 위한 자석구조물; 상기 자석구조물을 덮어 자기장의 세기를 강화시키는 자기장 차폐제로 구성된 자석 덮개; 상기 자석구조물에 의해 형성된 자기장의 크기와 공진을 이루는 주파수의 마이크로웨이브를 상기 플라즈마 방전 공간으로 입사시키는 마이크로웨이브 조사 장치; 및 상기 리미터로부터 하단으로 연장되고 증착 공정 수행을 위한 기판 탑재대를 내장한 공정 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 자석구조물은 중앙 폴과 상기 중앙 폴을 둘러싸는 사이드 폴을 포함하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 사이드 폴은 원형 또는 타원형으로 배열되는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 중성입자빔 생성장치는, 상기 자석구조물과 자석 덮개가 설치된 공간을 진공으로 만들기 위한 자석구조물 진공 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 챔버의 천정을 이루는 플레이트의 두께는 상기 자석구조물과 자석 덮개의 하중을 대기압이 아닌 진공 중에서 지지하는 임계치로 형성하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 자석구조물 및 상기 자석 덮개는 일체적으로 상기 중성화 반사판 위쪽에서 운동하여, 상기 플라즈마 방전 공간 내의 플라즈마의 분포를 균일하게 하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
7 7
제4항에 있어서, 상기 자석구조물 및 자석 덮개의 운동은, 왕복운동, 대각선 방향 운동 또는 회전 운동 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
8 8
제7항에 있어서, 상기 자석구조물 및 자석 덮개의 운동은, 모터, 모터의 회전 운동을 병진 운동으로 전환하는 동력 전달 수단, 병진 운동 수단 또는 동력 전달 및 병진 운동 수단 중 어느 하나인 샤프트를 포함하는 구동 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성장치
9 9
중성입자빔을 생성하기 위한 방법으로서, 플라즈마 생성을 위해, 플라즈마 방전 공간에 자석구조물을 이용하여 자기력을 인가함과 동시에 마이크로웨이브 조사 장치를 이용하여 상기 자기력과 공명을 이루는 주파수의 마이크로웨이브를 조사하고, 생성된 플라즈마층의 두께 분포를 균일하게 하기 위해, 상기 자석구조물에 움직임을 주는 것을 특징으로 하는 중성입자빔 생성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.