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다단계 펄스를 이용한 고체원소 중성입자빔 생성장치

  • 기술번호 : KST2015199266
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 다단계 펄스를 이용한 고체원소 중성입자빔 생성장치 및 방법은 고체원소 중성입자빔 생성장치에 있어서, 플라즈마 방전에 의해 플라즈마를 생성하는 플라즈마 챔버, 기판에 증착하고자 하는 물질로 구성되며, 상기 플라즈마 방전에 의해 생성된 플라즈마 이온을 유도하여 스퍼터링을 일으켜 고체원소 양이온을 발생시키는 금속판 및 상기 금속판을 가로질러 자기장을 인가하는 마그네트론 유닛을 포함하고, 상기 금속판은, 다단계 펄스전압의 제 1바이어스 전압을 인가하여 플라즈마 이온을 유도하여 스퍼터링을 일어나게 하고, 다시 다단계 펄스전압의 제 2바이어스 전압을 인가하여 고체원소 양이온을 유도함으로써 중성입자빔을 발생시키는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 증착물질로 이루어진 하나의 금속판에 다단계 펄스전압의 제 1바이어스와 제 2바이어스 전압을 순차적으로 인가하여 양이온 생성과 중성입자빔을 발생시킬 수 있다. 중성입자빔, 플라즈마, 스퍼터링, 펄스
Int. CL H05H 3/00 (2006.01) H05H 3/02 (2006.01)
CPC H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01) H05H 3/02(2013.01)
출원번호/일자 1020090115643 (2009.11.27)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1037138-0000 (2011.05.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20110526) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.27)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영우 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 김용현 대한민국 경기도 안양시 만안구
3 이봉주 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0730967-16
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0014592-98
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0163903-19
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0163904-54
5 등록결정서
Decision to grant
2011.03.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0136794-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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고체원소 중성입자빔 생성장치에 있어서, 플라즈마 방전에 의해 플라즈마를 생성하는 플라즈마 챔버; 기판에 증착하고자 하는 물질로 구성되며, 상기 플라즈마 방전에 의해 생성된 플라즈마 이온을 유도하여 스퍼터링을 일으켜 고체원소 양이온을 발생시키는 금속판; 및 상기 금속판을 가로질러 자기장을 인가하는 마그네트론 유닛;를 포함하고, 상기 금속판은, 다단계 펄스전압의 제 1바이어스 전압을 인가하여 플라즈마 이온을 유도하여 스퍼터링을 일어나게 하고, 다시 다단계 펄스전압의 제 2바이어스 전압을 인가하여 고체원소 양이온을 유도함으로써 중성입자빔을 발생시키며, 플라즈마 이온과 전자에 의한 부작용을 방지하기 위해, 상기 고체원소 중성입자빔 생성장치가 방전공간의 하부에 홀 또는 슬릿을 갖는 플라즈마 리미터가 더 구비되고, 상기 리미터는 플라즈마 이온 및 전자의 진행경로를 변경시키기 위해 홀 또는 슬릿에 전기장 또는 자기장을 인가하는 유닛을 더 구비하며, 중성입자빔의 방향성을 향상시키기 위해 상기 플라즈마 리미터의 하부에 복수의 홀을 갖는 콜리메이터(collimator)를 더 포함하고, 상기 제 1바이어스전압과 제 2바이어스전압은 각각 전압의 크기를 조절하여 중성입자빔을 생성하는 것을 특징으로 하는 다단계 펄스를 이용한 고체원소 중성입자빔 생성장치
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