맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

플라즈마 균일도 향상을 위한 플라즈마 발생장치

  • 기술번호 : KST2015199267
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 플라즈마 반응기 내에 삽입된 직선의 안테나를 사용한 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 플라즈마 반응기 내에 삽입된 상기 안테나의 외주면으로 감싸도록 구비되어 플라즈마로부터 안테나를 보호하기 위한 소정 길이의 제 1절연체 및 상기 제 1절연체의 소정길이를 감싸도록 구비되어 capacitively coupling 제어를 위한 제 2절연체를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 대면적 플라즈마 소스에서의 높은 균일도를 형성할 수 있고, 절연체 표면에서의 self biasing voltage를 감소시켜 안테나 보호 절연체 표면의 스퍼터링을 방지할 수 있는 이점이 있다. 플라즈마, 균일도, 안테나, 절연체, 스퍼터링
Int. CL H05H 1/34 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
CPC H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01)
출원번호/일자 1020090082443 (2009.09.02)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0024445 (2011.03.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.02)
심사청구항수 1

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김대철 대한민국 대전광역시 유성구
2 김종식 대한민국 경기도 안산시 상록구
3 유석재 대한민국 대전광역시 유성구
4 이봉주 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2009-0540749-13
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0573983-13
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.02.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0108653-65
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0108652-19
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2011.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0116371-74
6 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2011.04.25 반려 (Return) 7-1-2011-0015785-19
7 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2011.05.11 수리 (Accepted) 7-8-2011-0013102-28
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 반응기 내에 삽입된 직선의 안테나를 사용한 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 플라즈마 반응기 내에 삽입된 상기 안테나의 외주면으로 감싸도록 구비되어 플라즈마로부터 안테나를 보호하기 위한 소정 길이의 제 1절연체; 및 상기 제 1절연체의 소정길이를 감싸도록 구비되어 capacitively coupling 제어를 위한 제 2절연체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 안테나는, 구리 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 내부 삽입 안테나형 플라즈마 발생장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 제 1절연체와 제 2절연체는, 쿼츠 또는 알루미나(Al203)로 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
4 4
제 1항에 있어서, 상기 제 1절연체는, 상기 안테나와 일정간격 이격되도록 구비되어 제 1절연체 표면에서의 self biasing voltage를 감소시켜 플라즈마로부터 발생된 이온이 높은 에너지로 입사하여 발생되는 제 1절연체 표면 스퍼터링을 방지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
5 5
제 1항에 있어서, 상기 제 2절연체는, capacitively coupling에 의해 self biasing voltage의 감소의 상관 관계에 따라 두께 및 크기가 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
6 6
제 1항에 있어서, 상기 제 2절연체는, capacitively coupling이 큰 영역에 설치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
7 7
플라즈마 반응기 내에 삽입된 직선의 안테나를 사용한 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 플라즈마 반응기 내에 삽입된 상기 안테나의 외주면으로 감싸도록 소정 길이의 제 1절연체를 설치하고, 상기 제 1절연체의 두께를 임의의 위치에 따라 달리하여 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
8 8
제 7항에 있어서, 상기 제 1절연체의 두께는, capacitively coupling이 큰 영역에 설치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
9 9
제 7항에 있어서, 상기 제 1절연체는, 쿼츠 또는 알루미나(Al203)로 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
10 10
제 7항에 있어서, 상기 제 1절연체의 두께는 capacitively coupling에 의해 self biasing voltage의 감소의 상관 관계에 따라 두께 및 크기가 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 균일도 향상을 위한 안테나형 플라즈마 발생장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.