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레이저 빔을 출사하는 광원부;
상기 출사되는 레이저 빔을 플라즈마 형성 공간에 포함되도록 순차적으로 일정 폭 증폭시키는 빔 증폭부;
상기 플라즈마 형성 공간을 통과하여 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저 빔을 반사 또는 투과시키는 광 경로 안내부;
상기 반사되는 레이저 빔의 간섭 정보와 상기 투과되는 레이저 빔의 빔 세기 정보를 취득하여 상기 플라즈마 밀도 분포를 산출하는 플라즈마 밀도 분포 분석부를 포함하고,
상기 빔 증폭부는 상기 광원부로부터 출사되는 레이저 빔을 광 경로 안내부에서 처리되기 적합하도록 제 1폭으로 증폭시키는 제 1빔 증폭부와, 상기 제 1폭으로 증폭된 레이저 빔을 플라즈마 형성 공간에 포함되도록 상기 제 1폭 보다 일정 폭 증폭되는 제 2폭으로 증폭시키는 제 2빔 증폭부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 1항에 있어서,
상기 광 경로 안내부는
상기 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저 빔을 반사 또는 투과시키는 고간섭 빔 스플리터인 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 3항에 있어서,
상기 시스템은
상기 제 1빔 증폭부와 상기 제 2빔 증폭부의 사이에는 50% 빔 스플리터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 4항에 있어서,
상기 시스템은
상기 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저 빔을 반사시키어 상기 50% 빔 스플리터로 안내하는 거울을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 5항에 있어서,
상기 거울에서 반사된 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저빔은 상기 50% 빔 스플리터로 안내되기 전에 상기 제 2빔증폭부에서 일정 폭으로 축소되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 6항에 있어서,
상기 50% 빔 스플리터는 상기 출사되는 레이저 빔을 상기 거울 측으로 투과시키고, 상기 거울에 반사되는 레이저 빔을 상기 광 경로 안내부로 안내하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 7항에 있어서,
상기 플라즈마 형성 공간은
상기 제 2빔증폭부와 상기 거울 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 3항에 있어서,
상기 플라즈마 밀도 분포 분석부는 기준 측정기와, 제 1측정기와, 제 2측정기와, 제어기를 구비하며,
상기 기준 측정기는 상기 광원부로부터 출사되는 레이저 빔의 기준빔 세기 정보를 측정하고,
상기 제 1측정기는 상기 반사되는 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저 빔의 광경로차를 갖는 간섭 정보를 측정하고,
상기 제 2측정기는 상기 투과되는 플라즈마 밀도 정보를 갖는 레이저 빔의 측정빔 세기 정보를 측정하고,
상기 제어기는 상기 기준빔 세기 정보, 상기 간섭 정보 및 상기 측정빔 세기 정보를 사용하여 플라즈마 밀보 분포를 분석하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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제 9항에 있어서,
상기 제어기에는 플라즈마 굴절률인 N과, 광경로인 L(x,y)과, 광경로차인 ΔL(x,y)의 계산식은 미리 정의되고, 상기 기준빔 세기 정보의 비율과 측정빔 세기 정보의 비율은 가변되지 않도록 정의되고, 상기 플라즈마의 밀도는 반경 방향으로 대칭인 것으로 정의되되,
상기 이고,
상기 이고,
상기 이고,
상기 ΔL(x,y)을 각 y에 대하여 x축 방향으로 유한차분하여 상기 L(x,y)을 구하고,
상기 구해진 L(x,y)을 사용하여 각 y에 대하여 x축 방향으로 아벨 인버전 방법으로 상기 플라즈마 밀도를 구하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 분석 시스템
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