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구형체 물질의 고른 코팅을 위한 ＣＶＤ 장치

  • 기술번호 : KST2015199329
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치에 관한 것으로, CVD 장치에 있어서, 소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버, 상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 코팅 대상물질을 수용하는 반응로, 상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부, 상기 반응로 내로 코팅체를 공급하며, 공급되는 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되는 공급로, 상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로 및 상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 코팅대상 물질을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 공급로의 예열로를 통해 진공챔버 내부의 온도를 저해하지 않으며, 공급가스의 압력으로 구형의 코팅 대상물질을 믹싱하여 효과적으로 고르게 코팅할 수 있는 이점이 있다.
Int. CL C23C 16/00 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 16/44(2013.01) C23C 16/44(2013.01) C23C 16/44(2013.01)
출원번호/일자 1020110008387 (2011.01.27)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1312230-0000 (2013.09.17)
공개번호/일자 10-2012-0086986 (2012.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20130927) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.01.27)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유인근 대한민국 대전광역시 유성구
2 조승연 대한민국 대전광역시 유성구
3 안무영 대한민국 대전광역시 유성구
4 구덕영 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인대한 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 부봉빌딩 *층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0068522-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.09.09 수리 (Accepted) 9-1-2011-0072234-13
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0773294-78
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0153778-87
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-0153773-59
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
12 등록결정서
Decision to grant		 2013.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0422927-73
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
CVD 장치에 있어서,소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버;상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로;상기 반응로의 주변에 구비되는 히터부;상기 반응로 내로 코팅체를 공급하며, 공급되는 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되는 공급로;상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로; 및상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 공급로는,알루미나(Al2O3)로 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 반응로는,바닥면 중심으로 오목하게 형성되거나 경사면을 가지는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
4 4
제 1항에 있어서, 상기 진공챔버와 예열로는,외측면을 감싸는 냉각부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
5 5
제 1항에 있어서, 상기 예열로는,상기 반응로와 공급로를 일체로 감싸도록 구비되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
6 6
제 5항에 있어서, 상기 예열로는,세라믹으로 형성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
7 7
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응로는,그라파이트(graphite)로 형성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
8 8
CVD 장치에 있어서,진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로;상기 반응로 내로 코팅체를 공급하며, 공급되는 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되는 공급로; 및상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
9 9
제 8항에 있어서, 상기 공급로는,알루미나(Al2O3)로 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
10 10
제 8항에 있어서, 상기 반응로는,바닥면 중심으로 오목하게 형성되거나 경사면을 가지는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
11 11
제 8항에 있어서, 상기 예열로는,상기 반응로와 공급로를 일체로 감싸도록 구비되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
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패밀리정보가 없습니다
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