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중앙에 통공(111)이 마련된 고리형태로 형성되고, 그 둘레를 따라 복수 개의 방전관삽입공이 일정간격으로 이격되어 배치된 도파관공명기(110);상기 도파관공명기(110)의 각 방전관삽입공에 관통삽입된 상태로 배치되고, 내부에는 연장된 길이방향으로 이중관(113)이 배치되어, 상기 이중관(113)의 일측으로 공급된 F-라디칼 생성가스를 발생된 플라즈마에 의해 F-라디칼로 분해하여 타측으로 배출하는 방전관(120); 및상기 도파관공명기(110)의 일측에 설치되며 발진기(131)로부터 생성된 마이크로웨이브를 공급받아 상기 도파관공명기(110)에 인가하는 튜너(134);를 포함하되,상기 튜너(134)와 대향하는 상기 도파관공명기(110)의 타측에는, 상기 도파관공명기(110) 상에서 X축으로의 위치변화에 따라 상기 도파관공명기(110) 내의 전기장의 분포를 X축 방향으로 이동하도록 조절하는 X축 방향 조절기(140);를 더 포함하는 것을 특징으로하는 원격 플라즈마 세정원
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제 1항에 있어서,상기 도파관공명기(110)의 통공(111) 내측에는,Y축 방향으로의 위치변화에 따라 상기 도파관공명기(110) 내의 전기장의 분포를 원주방향(φ)으로 회전되도록 조절하는 원주방향(φ) 조절기(180);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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제 3항에 있어서,외부로부터 F-라디칼 생성가스를 공급받아 상기 각 방전관(120)에 주입하기 위한 가스주입관(160);을 더 포함하며,상기 가스주입관(160)은, 복수 개로 분기되어 각 방전관(120) 별로 체결되는 분기관(162)을 통해 상기 각 방전관(120)의 타측에 동일한 유량으로 상기 F-라디칼 생성가스를 주입하는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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제 3항에 있어서,상기 방전관(120)에는,외부로부터 냉각수를 공급받아 상기 이중관(113)을 냉각시키기 위한 하나 이상의 냉각챔버(171,173)가 구비되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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제 5항에 있어서,상기 냉각챔버(171,173)는,상기 이중관(113)의 상부와 하부에 각각 배치되고, 상기 이중관(113)의 둘레에는 상부 냉각챔버(173)와 하부 냉각챔버(171)를 상호 연통시키는 수냉로(175)가 구비되며,상기 상부 냉각챔버(173)와 하부 냉각챔버(171) 중 하나의 냉각챔버에는 상기 냉각수가 주입되는 냉각수유입구(172)가 배치되고, 다른 하나의 냉각챔버에는 상기 이중관(113)을 냉각시키며 가열된 냉각수가 배출되는 냉각수배출구(174)가 배치되어, 상기 냉각수는 상기 상부 냉각챔버(173), 수냉로(175) 및 하부 냉각챔버(171)의 내부를 순환하며 상기 이중관(113)을 냉각시키는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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제 3항에 있어서,상기 방전관(120)의 하부에는,상기 방전관(120)의 내부를 밀봉시키는 진공창(115)이 배치되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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제 7항에 있어서,상기 진공창(115)의 일측에는, 상기 이중관(113)에서 생성된 플라즈마의 점화를 보조하는 EUV(Extreme ultraviolet) 광원이 설치되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 세정원
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