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관형 플라즈마 표면 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015199362
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마를 이용한 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 관형 플라즈마 전극을 이용해 피처리물을 관형 전극 내부로 통과시키면서 처리하는 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 것이다.
Int. CL H05H 1/24 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C08J 7/00 (2006.01)
CPC H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01)
출원번호/일자 1020120078234 (2012.07.18)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1415688-0000 (2014.06.30)
공개번호/일자 10-2014-0011638 (2014.01.29) 문서열기
공고번호/일자 (20140704) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.18)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정용호 대한민국 서울 광진구
2 석동찬 대한민국 대전 서구
3 정현영 대한민국 전북 군산시 서당길 **, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2012-0573994-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0041666-87
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0698595-57
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-1107311-91
10 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)
2014.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0210848-91
11 등록결정서
Decision to grant
2014.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0231033-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 공급구, 상부에 피처리물의 공급을 위한 피처리물 유입구와 하부에 피처리물 및 플라즈마 가스 유출을 위한 피처리물 유출구를 포함한 하우징;상기 하우징을 수직으로 관통하며 상기 하우징 내에 배치되며 상기 피처리물 유입구 및 피처리물 유출구와 소통하는 관형 제 1 전극;상기 관형 제 1 전극의 외부 둘레 방향을 따라 상기 관형 제 1 전극과 마주보도록 상기 관형 제 1 전극으로부터 일정한 거리만큼 이격되어 배치되어 플라즈마 발생 공간을 형성하는, 전도성 소재 또는 소재막 재질로 된 관형 제 2 전극;상기 관형 제 2 전극의 관 둘레의 내부면을 따라 배치된 관형 유전체; 및상기 관형 제 1 전극 및 상기 관형 제 2 전극에 교류 전압을 인가하기 위한 교류 전원을 포함하고,상기 관형 제 1 전극의 상기 관형 유전체 및 상기 관형 제 2 전극이 둘러싸고 있는 영역에서 상기 관형 제 1 전극에 개구가 형성되어 있으며, 상기 개구를 통해 상기 플라즈마 발생 공간에서 발생된 플라즈마가 상기 관형 제 1 전극 내부로 유입될 수 있는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 관형 제 1 전극에 형성되어 있는 개구는 하나 이상의 슬릿 형상 또는 구멍 형상인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 관형 제 1 전극의 상기 관의 길이 방향에 수직한 단면의 형상이 원형, 사각형, 삼각형, 또는 타원형인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 교류 전원의 주파수가 50Hz 내지 200MHz이고, 전압이 1kV 내지 40kV인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 교류 전원의 주파수가 5kHz 내지 100kHz이고, 전압이 2kV 내지 10kV인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생용 가스는 질소, 산소, 불활성 기체, 이산화탄소, 산화질소, 플루오르화 기체, 수소, 암모니아, 염소계 기체, 탄화수소, 오존 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
7 7
플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 공급구를 포함한 하우징;상기 하우징을 수직으로 관통하며, 상부에 피처리물의 공급을 위한 피처리물 유입구와 하부에 피처리물 및 플라즈마 가스 유출을 위한 피처리물 유출구를 포함한 관형 제 1 전극;상기 관형 전극의 외부 둘레 방향을 따라 상기 관형 전극과 마주보도록 상기 관형 전극으로부터 일정한 거리만큼 이격되어 배치되어 플라즈마 발생 공간을 형성하는 관형 제 2 전극;상기 관형 제 2 전극의 관 둘레의 내부면을 따라 배치된 관형 유전체; 및상기 관형 제 1 전극 및 상기 관형 제 2 전극에 교류 전압을 인가하기 위한 교류 전원을 포함하고,상기 관형 제 1 전극의 상기 관형 유전체 및 상기 관형 제 2 전극이 둘러싸고 있는 영역에서 상기 관형 제 1 전극에 개구가 형성되어 있으며, 상기 개구를 통해 상기 플라즈마 발생 공간에서 발생된 플라즈마가 상기 관형 제 1 전극 내부로 유입될 수 있는,관형 플라즈마 표면 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.