맞춤기술찾기

이전대상기술

트리메틸갈륨(TMGa) 정제 장치

  • 기술번호 : KST2015199371
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 TMGa 정제 장치는 액체 TMGa(trimethylgallium)를 가열시킨 상태에서 불활성 가스를 유입시켜 상기 액체 TMGa를 기화시키는 기화부; 상기 기화부로부터 배출된 TMGa 가스를 액화시켜 정제된 액체 TMGa를 1차적으로 회수하는 정제부; 및 상기 정제부에서 액화되지 않은 TMGa 가스를 액화시켜 정제된 액체 TMGa를 2차적으로 회수하는 트랩부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01)
CPC C23C 16/4401(2013.01) C23C 16/4401(2013.01)
출원번호/일자 1020120067609 (2012.06.22)
출원인 한국기초과학지원연구원, (주)덕산테코피아
등록번호/일자 10-1379257-0000 (2014.03.24)
공개번호/일자 10-2014-0000501 (2014.01.03) 문서열기
공고번호/일자 (20140328) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.22)
심사청구항수 1

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 (주)덕산테코피아 대한민국 충남 천안시 동남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이상섭 대한민국 대전 대덕구
2 신선섭 대한민국 대전 대덕구
3 양영경 대한민국 울산 울주군
4 윤재식 대한민국 대전 유성구
5 양재열 대한민국 대전 서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김정수 대한민국 서울시 송파구 올림픽로 ***(방이동) *층(이수국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
2 (주)덕산테코피아 충남 천안시 동남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0500551-36
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.08.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0620045-26
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0057669-32
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0512319-67
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.09.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0866961-60
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0866960-14
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.01.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0025926-16
13 [대표자선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Representative] Report on Agent (Representative)
2014.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0091277-16
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.02.12 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0138666-10
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0138664-18
16 등록결정서
Decision to Grant Registration
2014.03.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0182332-99
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068484-18
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-0067164-06
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.10.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5210791-12
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
액체 TMGa(trimethylgallium)를 가열시킨 상태에서 불활성 가스를 유입시켜 상기 액체 TMGa를 기화시키는 기화부;상기 기화부로부터 배출된 TMGa 가스를 액화시켜 정제된 액체 TMGa를 1차적으로 회수하는 정제부; 및상기 정제부에서 액화되지 않은 TMGa 가스를 액화시켜 정제된 액체 TMGa를 2차적으로 회수하는 트랩부;를 포함하고,상기 기화부는,상기 액체 TMGa를 저장하는 저장 용기;상기 저장 용기에 연결되며 상기 불활성 가스를 상기 저장 용기 내부로 유입시키는 제 1유입관;상기 저장 용기에 연결되며 상기 TMGa 가스 및 불활성 가스를 상기 저장 용기 외부로 배출시키는 제 1배출관; 및상기 저장 용기를 수용하며 내부에 구비된 물을 가열하여 상기 액체 TMGa를 기화시키는 핫 배스(hot bath);를 포함하며,상기 정제부는,정제된 상기 액체 TMGa를 1차적으로 회수하는 제 1회수 용기;상기 제 1배출관과 상기 제 1회수 용기에 연결되어 상기 TMGa 가스 및 불활성 가스를 상기 제 1회수 용기 내부로 유입시키는 제 2유입관;상기 제 1회수 용기에 연결되며 상기 제 1회수 용기에서 액화되지 않은 TMGa 가스 및 불활성 가스를 상기 제 1회수 용기 외부로 배출시키는 제 2배출관; 및상기 제 1회수 용기를 수용하며 내부에 액체질소(LN2)를 저장하여 상기 TMGa 가스를 액화시키는 쿨 배스(cool bath);를 포함하고,상기 트랩부는,정제된 상기 액체 TMGa를 2차적으로 회수하는 제 2회수 용기;상기 제 2배출관과 상기 제 2회수 용기에 연결되어 상기 TMGa 가스 및 불활성 가스를 상기 제 2회수 용기 내부로 유입시키는 제 3유입관;상기 제 2회수 용기에 연결되며 상기 불활성 가스를 상기 제 2회수 용기 외부로 배출시키는 제 3배출관; 및상기 제 2회수 용기 상에 설치되고 내부에 상기 TMGa 가스를 액화시키는 냉매로 액체질소(LN2)가 저장된 냉매 탱크;를 포함하며,상기 제 3유입관 및 제 3배출관은 각각 상기 냉매 탱크에 수용되어 상기 냉매에 잠기는 코일 형상부를 구비하고,상기 코일 형상부를 이동하는 TMGa 가스가 상기 냉매에 의해 냉각되어 액화됨으로써 정제된 상기 액체 TMGa가 상기 제 2회수 용기에 회수되는 것을 특징으로 하는 TMGa 정제 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.