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구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치

  • 기술번호 : KST2015199380
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치에 관한 것으로, CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서, 소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버, 상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로, 상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부, 상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를 따라 연장된 후 일부 구간이 상기 반응로를 감싸도록 구성되어 내부에 흐르는 코팅체가 상기 히터부로부터 열을 공급받도록 구성되는 공급로, 상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로 및 상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 공급로의 예열로를 통해 진공챔버 내부의 온도를 저해하지 않으며, 공급가스의 압력으로 구형의 코팅 대상물질을 믹싱하여 효과적으로 고르게 코팅할 수 있는 이점이 있다.
Int. CL C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 16/4412(2013.01) C23C 16/4412(2013.01) C23C 16/4412(2013.01)
출원번호/일자 1020120093216 (2012.08.24)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1459187-0000 (2014.10.31)
공개번호/일자 10-2014-0026168 (2014.03.05) 문서열기
공고번호/일자 (20141107) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.24)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유인근 대한민국 대전광역시 유성구
2 조승연 대한민국 대전광역시 유성구
3 안무영 대한민국 대전광역시 유성구
4 구덕영 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인대한 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 부봉빌딩 *층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.08.24 수리 (Accepted) 1-1-2012-0683885-61
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.06.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2013-0067535-13
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0196826-14
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-0468068-12
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0579002-91
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.06.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0579003-36
12 등록결정서
Decision to grant
2014.10.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0722658-89
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서,소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버;상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로;상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부;상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를 따라 연장된 후 일부 구간이 상기 반응로를 감싸도록 구성되어 내부에 흐르는 코팅체가 상기 히터부로부터 열을 공급받도록 구성되는 공급로;상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로; 및상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로;를 포함하고,상기 배출로는, 선택적으로 결합되는 배출로드를 삽입 결합하여 배출로를 폐쇄시키고, 코팅체 배출 시 상기 배출로드를 분리하여 코팅체를 배출시키되,상기 배출로드는, 상기 반응로로 삽입되는 방향에 해당하는 끝단면이 상기 공급로와 마주하며, 상기 끝단면은, 곡률을 가지는 골과 산으로 이루어진 회오리 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
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제 1항에 있어서, 상기 반응로는,바닥면 중심으로 오목하게 형성되거나 경사면을 가지는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응로는,그라파이트(graphite)로 형성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
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삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
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제 1항에 있어서, 상기 공급로는,출구 끝단이 상기 골의 개수에 대응하는 개수의 홀을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
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제 1항에 있어서, 상기 배출로드는,상기 반응로와 마주하는 끝단면으로는 회전 가능한 회전체;상기 회전체로 동력을 전달하는 구동샤프트; 및상기 구동샤프트에 동력을 제공하는 모터:를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.