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원통형 면방전 플라즈마 모듈의 분말 플라즈마 처리 장치로서,상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈의 외면은 기판형 전극층이고,상기 기판형 전극층의 내면 측으로 절연층이 있고,상기 절연층 위에 플라즈마 발생 전극이 위치하며,상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈은 회전하고,상기 플라즈마 발생 전극과 상기 기판형 전극층에 교류 전압이 인가되어, 상기 플라즈마 발생 전극 주위에 플라즈마가 발생되고, 플라즈마 처리를 위한 분말은 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈 내에서 상기 플라즈마에 의해 처리되며,상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈이 수평으로 놓인 상태로 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈을 회전시키도록 구성되는 구동부를 포함하는, 분말 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 기판형 전극층에는 고전압이 인가되고,상기 플라즈마 발생 전극은 접지 전극인,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 전극에는 고전압이 인가되고,상기 기판형 전극층은 접지 전극인,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 전극은 상기 절연층 위에서, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 원주 방향을 따라 간격을 이뤄 다수 배열되고, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 길이 방향을 따라 연장되어 있는,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 전극은 상기 절연층 위에서, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 길이 방향을 따라 간격을 이뤄 다수 배열되고, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 원주 방향을 따라 연장되어 있는,분말 플라즈마 처리 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 구동부는 회전속도 제어부를 포함하고,상기 회전속도 제어부는 상기 구동부가 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈을 회전시키는 속도를 제어하도록 구성되는,분말 플라즈마 처리 장치
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